电子技术基础——模拟部分 主讲 申春.

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电子技术基础——模拟部分 主讲 申春

1、电子系统与信号 电子系统:是由若干相互联接、相互作用的基本电路 组成的具有特定功能的电路整体。 信号:是信息的载体。自然界的各种物理量必须先 经过传感器转换为电信号再送入电子系统中加以处理。 例如:气候信息就包含温度、气压、风速等信号。 模拟信号:在时间上和幅值上均连续的信号。 数字信号:时间和数值上都是离散的信号。

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第一章 半导体二极管 1.1 半导体的基本知识 1.2 PN结的形成及特性 ※1.3 半导体二极管结构与特性 ※1.4 二极管基本电路及其分析方法 1.5 特殊二极管

si 1.1 半导体的基本知识 一、 半导体材料 Ge 在物理学中。根据材料的导电能力,可以将他们划分导体、绝缘体和半导体。 硅原子 Ge 锗原子 +4 硅和锗最外层轨道上的四个电子称为价电子。

二、 本征半导体 本征半导体——化学成分纯净的半导体晶体。 制造半导体器件的半导体材料的纯度要达到99.9999999%,常称为“九个9”。 本征半导体的共价键结构 束缚电子 在绝对温度T=0K时,所有的价电子都被共价键紧紧束缚在共价键中,不会成为自由电子,因此本征半导体的导电能力很弱,接近绝缘体。

+4 当温度升高或受到光的照射时,束缚电子能量增高,有的电子可以挣脱原子核的束缚,而参与导电,成为自由电子。 空穴 自由电子产生的同时,在其原来的共价键中就出现了一个空位,称为空穴。 自由电子 这一现象称为本征激发,也称热激发。

+4 可见本征激发同时产生电子空穴对。 外加能量越高(温度越高),产生的电子空穴对越多。 与本征激发相反的现象——复合 自由电子 +4 空穴 可见本征激发同时产生电子空穴对。 外加能量越高(温度越高),产生的电子空穴对越多。 与本征激发相反的现象——复合 在一定温度下,本征激发和复合同时进行,达到动态平衡。电子空穴对的浓度一定。 常温300K时: 电子空穴对的浓度 硅: 锗: 电子空穴对

E 导电机制 自由电子 带负电荷 电子流 载流子 空穴 带正电荷 空穴流 +4 + - 本征半导体的导电性取决于外加能量: 自由电子 带负电荷 电子流 载流子 空穴 带正电荷 空穴流 本征半导体的导电性取决于外加能量: 温度变化,导电性变化;光照变化,导电性变化。

二. 杂质半导体 1. N型半导体 在本征半导体中掺入某些微量杂质元素后的半导体称为杂质半导体。

N型半导体---电子型半导体 多数载流子——自由电子 少数载流子—— 空穴 N型半导体 + 硅原子 电子空穴对 自由电子 多余电子 磷原子 施主离子 多数载流子——自由电子 少数载流子—— 空穴

2. P型半导体 多数载流子—— 空穴 少数载流子——自由电子 +3 +3 +4 +4 在本征半导体中掺入三价杂质元素,如硼、镓等。 电子空穴对 硅原子 空穴 - P型半导体 空穴 硼原子 受主离子 多数载流子—— 空穴 少数载流子——自由电子

杂质半导体的示意图 N型半导体 + 多子—电子 多子—空穴 P型半导体 - 少子—电子 少子—空穴 少子浓度——与温度有关,本征激发产生 多子浓度——与温度无关,由掺杂杂质产生

1.2 PN结及其单向导电性 1 . 载流子的漂移和扩散 漂移:由于电场的作用导致载流子的运动,形成漂移电流 扩散:由于载流子的浓度差异,载流子由高浓度区域向低浓度区域扩散,形成扩散电流。

2 . PN结的形成 PN结合 因多子浓度差 多子的扩散 空间电荷区 形成内电场 阻止多子扩散,促使少子漂移。 内电场E 耗尽层 多子扩散电流 少子漂移电流

耗尽层 动态平衡: 扩散电流 = 漂移电流 总电流=0 补充耗尽层失去的多子,耗尽层窄,E 多子扩散 少子飘移 又失去多子,耗尽层宽,E 内电场E 多子扩散电流 少子漂移电流 耗尽层 动态平衡: 扩散电流 = 漂移电流 总电流=0

3. PN结的单向导电性 外电场的方向与内电场方向相反。 (1) 加正向电压(正偏)——电源正极接P区,负极接N区 外电场削弱内电场 →耗尽层变窄 →扩散运动>漂移运动 →多子扩散形成正向电流I F 正向电流

(2) 加反向电压——电源正极接N区,负极接P区 外电场的方向与内电场方向相同。 外电场加强内电场 →耗尽层变宽 →漂移运动>扩散运动 →少子漂移形成反向电流I R(10-8至10-14A) P N 在一定的温度下,由本征激发产生的少子浓度是一定的,故IR基本上与外加反压的大小无关,所以称为反向饱和电流。但IR与温度有关。

PN结加正向电压时,具有较大的正向扩散电流,呈现低电阻, PN结导通;

4. PN结的伏安特性曲线及表达式 根据理论推导,PN结的伏安特性曲线如图 IF(多子扩散) 反向饱和电流 正偏 反向击穿电压 反偏 IR(少子漂移) 电击穿——可逆。分为雪崩击穿和齐纳击穿两种 热击穿——烧坏PN结

) 1 (e - = I i I i » 1 e << 1 e >> u nV S S 根据理论分析: T S - = nV u I i 根据理论分析: u 为PN结两端的电压降 i 为流过PN结的电流 当 u>0 u>>VT时 1 e T >> nV u S I i » IS 为反向饱和电流 n为发射系数,值1~2之间 VT称为温度的电压当量 当 u<0 |u|>>|U T |时 1 e T << nV u 对于室温(相当T=300 K) 则有VT=26 mV。

本征半导体,本征激发,载流子(空穴、电子) P型半导体,N型半导体,多子,少子 2、PN结的形成 载流子的漂移及扩散 PN结的形成 总结: 1、半导体的基本知识 本征半导体,本征激发,载流子(空穴、电子) P型半导体,N型半导体,多子,少子 2、PN结的形成 载流子的漂移及扩散 PN结的形成 PN结的单向导电性 PN结的V-I 特性

1.3 半导体二极管 二极管 = PN结 + 管壳 + 引线 1 结构 N P 阳极 + 阴极 - 符号

二极管按结构分两大类: PN结面积小,结电容小, 用于检波和变频等高频电路。 但不能承受高的反向电压和 大电流 (1) 点接触型二极管

(2) 面接触型二极管` PN结面积大,可以 承受比较大的工作电流, 反向击穿电压高,用于 低频大电流整流电路。 正极引线 铝合金小球 (2) 面接触型二极管` 负极引线 正极引线 N型硅 PN结 铝合金小球 底座

1.3.2 二极管的 V—I 特性 (1) 正向特性 实验曲线 i u E (2) 反向特性 i 硅:0.5 V u E 锗 击穿电压UBR (1) 正向特性 实验曲线 锗 u E i V mA 击穿电压UBR 反向饱和电流 导通压降 硅:0.7 V 锗:0.3V (2) 反向特性 死区 电压 u E i V uA 硅:0.5 V 锗: 0.1 V

3 二极管的主要参数 (2) 反向击穿电压UBR——— 3 二极管的主要参数 二极管长期连续工 作时,允许通过二 极管的最大整流 电流的平均值。 (1) 最大整流电流IF—— 二极管反向电流 急剧增加时对应的反向 电压值称为反向击穿 电压UBR。 (2) 反向击穿电压UBR——— (3) 反向电流IR—— 在室温下,在规定的反向电压下的反向电流值。硅二极管的反向电流一般在纳安(nA)级;锗二极管在微安(A)级。 (4) 最高工作频率fM: 由于PN结存在结电容,当频率升高到一定值时,二极管失去单向导电性.

1.4 二极管的基本电路及分析方法 一、简单二极管电路的图解分析方法 i R + 1kΩ E vD 10V – 端口左边为线性器件 1.4 二极管的基本电路及分析方法 一、简单二极管电路的图解分析方法 端口左边为线性器件 i = ( E–vD)/ R 端口右边为非线性器件 i vD i R i vD E E /R + 1kΩ E vD 10V – i vD 图解分析 Q

二、二极管的简化模型分析方法 - 1.理想二极管模型 二极管的V—A特性 2.恒压降模型(串联电压源模型) i u i u 正偏 反偏 导通压降 二极管的V—A特性 - + i u 2.恒压降模型(串联电压源模型) D i u U D U U D 二极管的导通压降。硅管 0.7V;锗管 0.3V。

U th 二极管的门坎电压。硅管 0.5V;锗管 0.1V。 3.折线模型 u≥Uth u<Uth + - u i th U rD i u Uth th U rD=200W 导通压降 二极管的V—A特性 - + i u U th 二极管的门坎电压。硅管 0.5V;锗管 0.1V。 rD=(0.7V-0.5V)/1mA=200W D U 2.恒压降模型(串联电压源模型) U D 二极管的导通压降。硅管 0.7V;锗管 0.3V。 i u 如果信号在静态工作Q(v=VD,i=ID)附近工作,可以把与Q点处相切直线的斜率的倒数作用微变电阻rD rD= △uD / △iD≈VT/ID=26(mV)/ ID 4.小信号模型 i u Q △iD △uD rD △iD + - △uD

二极管的近似分析计算 R 10kΩ 相对误差 例1: E R I 10V 10kΩ E I R 10V 10kΩ E 相对误差 I 0.7V mA 1 K 10 V = W I 相对误差 7 100 0.932 1- 0.932 d × ≈ R I 10V E 10kΩ 理想二极管模型 例1: I R 10V E 10kΩ I R 10V E 10kΩ 0.7V mA 0.93 V ) 7 . 10 ( = 10KW - I 相对误差 0.2 100 0.932 0.932-0.93 d × ≈ 恒压降模型 测量值 0.932mA 0.5V I R 10V E 10kΩ rD =200W d mA 0.931 V ) 5 . 10 ( ≈ 10.2KW - = I 相对误差 0.1 100 0.932 0.932-0.931 × 折线模型

1.4.2 二极管应用的典型电路 1.限幅电路:能把输出电压限制在一定幅值内的电路。 ui 采用恒压降模型 UREF = 2V uo 4V 1.4.2 二极管应用的典型电路 1.限幅电路:能把输出电压限制在一定幅值内的电路。 ui 采用恒压降模型 UREF = 2V 4V 2.7V t -4V uo 2.7V t

2.整流电路:将交流电压转变成单向直流电压的电路 vi 采用理想模型 t vi + + vi vo t - -

该电路是“与”门电路。完成了“与”的逻辑关系 3.开关电路: 利用二极管的单向导电性,可以接通或断开 电路。 采用理想模型 VCC +5V vi1 vo vi2 该电路是“与”门电路。完成了“与”的逻辑关系

例: 电路如图(a)所示,其输入电压vi1和vi2的波形如图(b)所示,设二极管为理想二极管。试画出输出电压vo的波形。

例:电路如图所示,设ui=10sinωt ,二极管使用恒压降模型(0.7V),试画出输出电压uo的波形。

例:在0 ≤ t ≤ 10ms时间内,电路输入vi(t)波形如图所示。分别绘出以下两图电路的输出电压Vo(t)的波形。 设二极管是理想的。

1.5 特殊二极管

当稳压二极管工作在反向击穿状态下,工作电流IZ在Izmax和Izmin之间变化时,其两端电压近似为常数 稳压二极管是应用在反向击穿区的特殊二极管 + UZ - 限流电阻 反偏电压≥UZ 反向击穿 稳定电压 正向同二极管 当稳压二极管工作在反向击穿状态下,工作电流IZ在Izmax和Izmin之间变化时,其两端电压近似为常数

【例1.4】由稳压管可以组成稳压限幅电路。(设稳压管导通时的管压降是0V)

本章小结 1.半导体材料中有两种载流子:电子和空穴。电子带负电,空穴带正电。在纯净半导体中掺入不同的杂质,可以得到N型半导体和P型半导体。 2.采用一定的工艺措施,使P型和N型半导体结合在一起,就形成了PN结。PN结的基本特点是单向导电性。 3.二极管是由一个PN结构成的。其特性可以用伏安特性和一系列参数来描述。在研究二极管电路时,可根据不同情况,使用不同的二极管模型。

13.分析题中各二极管的工作状态(导通或截止),并求出输出电压,设二极管是理想的。

作业 习题 1,2,4,5,9,10,13,15,17

14.分析题图中各二极管的工作状态(导通或截止),并求出输出电压的值

15.电路如下图,输入电压如题图(b),在0 < t < 5ms的时间周期内,给出输出电压的波形。用恒压降模型,管压降为0 15.电路如下图,输入电压如题图(b),在0 < t < 5ms的时间周期内,给出输出电压的波形。用恒压降模型,管压降为0.7V。

17.电路如题图所示,当vi1、vi2、vi3分别输入0V或5V电压时,求输出电压vo的值,用表格的形式给出。

20.电路如题图1-6所示,DZ的稳压值等于5V,当输入电压为vi=15sinωt(V)的正弦波时,画出输出电压vo的波形,设稳压管导通时的压降等于0V。