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製造程序規劃 修訂版 MANUFACTURING TECHNOLOGY 第 19 章 1013A

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1 製造程序規劃 修訂版 MANUFACTURING TECHNOLOGY 第 19 章 1013A

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21 第二十一章 半導體零件製造 21-1 引言 每件工業製造產品包含: 一、電子零件 二、用電子裝置來設計及製造

22 21-1引言 電子產品實例 一、 文字處理機:用來寫句子 含蓋的製造 ▪半導體基本科技 ▪電子控制模塑法製造塑膠鍵盤
▪用微處理機控制機器製造個別零件的 裝配

23 21-1引言 電子產品實例 二、 汽車: ▪汽車用電腦設計 ▪用微處理機控制機器人來裝配 含蓋的製造項目: 。電子點火 。 儀表
。燃燒控制系統

24 21-1引言 電子產品實例 三、電信系統 含蓋的製造項目: 。地面通訊設備 。微波 。人造衛星 以上的產品,沒有電子就無法操作

25 21-1引言 ▪20世紀初沒有電子工業,1947發明電晶體 ▪半導體快速發展,1960年代,只靠一片矽材料“晶片”即可生產下列產品:
。電晶體 。二極體 。電阻器 。電容器 這些稱為“積體電路”

26 21-1引言 ▪ 1980年中期,只在單一晶片上就可生產一百萬個元件,也就是非常大的積體電路
▪ 1970年,積體電路和計算功能連結生產,就是“微處理機” ▪ 1980年中期,只在單一晶片上就可生產一百萬個元件,也就是非常大的積體電路 ▪緊接著的發展將涉及到在一晶片上就有上千上百萬的元件,稱為十億積體電路 ▪電路線寬要低於1μm,製造很困難

27 21-2 半導體零件製造﹙Semiconductor component manufacture﹚
▪半導體概念: 。半導體材料是因其電子性質是位於導電體與絕緣體間 。使其有用是本身具有的電子性質,藉著謹慎增加晶體結構摻雜劑的數量而有所改變

28 21-2 半導體零件製造 ▪半導體概念 。摻雜劑的型態 1. “n”型:使材料電子豐富 2. “p”型:使材料電子不足
半導體零件製造 ▪半導體概念 。摻雜劑的型態 1. “n”型:使材料電子豐富 2. “p”型:使材料電子不足 。零件在半導體材料的晶體結構決定於選 擇摻雜 例如:將“n”型元素與“p”型元素接觸,就產生p-n結合,即產生二極接合,此結構將引導電流只有一個方向

29 21-2 半導體零件製造 ▪半導體概念 。半導體零件如電晶體和二極體以離散元件生產,適用在很多的產品,像電視機和收音機
半導體零件製造 ▪半導體概念 。半導體零件如電晶體和二極體以離散元件生產,適用在很多的產品,像電視機和收音機 。離散元件應用在動力傳送,處理大量電流 。技術上最複雜的是大量半導體集中在一片,即所稱的積體電路﹙IC﹚

30 21-2 半導體零件製造 ▪積體電路﹙Integrated circuit, IC﹚晶片的製造步驟:
半導體零件製造 ▪積體電路﹙Integrated circuit, IC﹚晶片的製造步驟: 1.結晶長成﹙Crystal growing﹚ 2.積體電路生產﹙ Integrated circuit production﹚ 3.積體電路的包裝﹙Packaging of Integrated circuits ﹚

31 21-2 半導體零件製造 ▪積體電路﹙Integrated circuit, IC﹚晶片的製造步驟:
半導體零件製造 ▪積體電路﹙Integrated circuit, IC﹚晶片的製造步驟: 1.結晶長成﹙Crystal growing﹚ 。半導體元件製造最常用的材料是“矽” 。矽氧化後﹙二氧化矽﹚是最好的絕緣體,可用來隔離晶片上的零件及元件 。因為“矽”產量極為豐富,比稼砷化物便宜,至今仍是最受歡迎的襯底材料

32 21-2 半導體零件製造 ▪積體電路﹙Integrated circuit, IC﹚晶片的製造步驟
半導體零件製造 ▪積體電路﹙Integrated circuit, IC﹚晶片的製造步驟 1.結晶長成﹙Crystal growing﹚ 。矽存在碤砂裡,即二氧化矽,製造前要先淨化,使其變成無瑕疵晶體供晶片製造。

33 21-2 半導體零件製造 ▪積體電路﹙Integrated circuit, IC﹚晶片的製造步驟
半導體零件製造 ▪積體電路﹙Integrated circuit, IC﹚晶片的製造步驟 1.結晶長成﹙Crystal growing﹚ 矽的淨化程序: a.用碳亦即煤或焦煤在電弧爐加熱,以生產出含97%純度的多晶矽 b.再次加熱,以氯化物分餾及蒸汽堆積,產生100%純度的多晶矽 c. 將100%純度的多晶矽在石英坩堝裡熔化

34 21-2 半導體零件製造 ▪積體電路﹙Integrated circuit, IC﹚晶片的製造步驟
半導體零件製造 ▪積體電路﹙Integrated circuit, IC﹚晶片的製造步驟 1.結晶長成﹙Crystal growing﹚ 矽的淨化程序: d.在石英坩堝裡熔化的多晶矽,也可加入摻雜劑 e.可將矽的品種滴入溶液,在旋轉時慢慢移開,晶種外層的溶化材料凝固形成更大的晶體,稱為“布雷” f.布雷直徑約公尺長約公尺其結晶長成的方法稱為“克羅克拉爾斯基﹙Czochralski﹚法”

35 21-2 半導體零件製造 ▪積體電路﹙Integrated circuit, IC﹚晶片的製造步驟
半導體零件製造 ▪積體電路﹙Integrated circuit, IC﹚晶片的製造步驟 1.結晶長成﹙Crystal growing﹚ 矽的淨化程序: g.要檢查布雷有無瑕疵,測試電子特性,去除不良部分 h.晶體長成法並沒有控制直徑規格,此時轉動並研磨布雷,產生精確的圓柱體,直徑在50-150mm,長1公尺

36 21-2 半導體零件製造 ▪積體電路﹙Integrated circuit, IC﹚晶片的製造步驟
半導體零件製造 ▪積體電路﹙Integrated circuit, IC﹚晶片的製造步驟 1.結晶長成﹙Crystal growing﹚ 矽的淨化程序: i.續用鑽石鋸切成約0.5mm厚的晶片,這些晶片要磨光並檢查在鋸的時後是否造成傷害,有就要棄除 j.晶體長成和晶片生產都是由專門公司製造,因此最後的步驟是包裝晶片,並分送到零件製造工廠。

37 21-2 半導體零件製造 ▪積體電路﹙Integrated circuit, IC﹚晶片的製造步驟:
半導體零件製造 ▪積體電路﹙Integrated circuit, IC﹚晶片的製造步驟: 2.積體電路生產﹙ Integrated circuit production﹚ 積體電路生產上有許多基本步驟,實際的生產過程,這些步驟會重複,在一晶片上生產數個不同電路層、摻雜區、以及電子間之相互連接。其生產步驟如下:

38 21-2 半導體零件製造 ▪積體電路﹙Integrated circuit, IC﹚晶片的製造步驟:
半導體零件製造 ▪積體電路﹙Integrated circuit, IC﹚晶片的製造步驟: 2.積體電路生產﹙ Integrated circuit production﹚步驟 a.光平版印刷術(photolithography) 1. 傳統機製法無法在一公分平方的矽片上生產一百萬個元件,要求助感光技術,即使在此,一般光線也無法使用,因其波長大約是從0.4μm到低於0.8μm,對這些電路來說,又太過粗略 2.最佳解決之道乃使用約0.1μm的紫外線或約 μm的電子束

39 21-2 半導體零件製造 ▪積體電路﹙Integrated circuit, IC﹚晶片的製造步驟:
半導體零件製造 ▪積體電路﹙Integrated circuit, IC﹚晶片的製造步驟: 2.積體電路生產﹙ Integrated circuit production﹚步驟 a.光平版印刷術(photolithography) 3.光平版印刷術涉及電路的印刷模型及光罩元件。因為每片矽晶片可生產大量的積體電路,模型在一個光罩上又可重複使用 4.光罩是靠電腦輔助設計﹙CAD﹚系統所產生的資訊在玻璃上感光製成

40 21-2 半導體零件製造 ▪積體電路﹙Integrated circuit, IC﹚晶片的製造步驟:
半導體零件製造 ▪積體電路﹙Integrated circuit, IC﹚晶片的製造步驟: 2.積體電路生產﹙ Integrated circuit production﹚步驟 a.光平版印刷術(photolithography) 5.模型的影像從光罩投影到先前塗上光感膜的矽晶片上。此膜稱為光阻劑﹙photoresist﹚,一旦碰到紫外線或電子束,在蝕刻溶液裡就會產生較多“正光阻劑”或少“負光阻劑” 6.經過紫外線或電子束的曝光後,經由蝕刻處裡的晶片,會留下曝光表面的適當部分 7.應用層級製造,曝光表面就容易用氧化、摻雜物擴散、蒸汽堆積或進一步蝕刻處理 8.IC的設計會決定這些製程的進行,在每個步驟間,光平版印刷法是用來生產新的模型

41 21-2 半導體零件製造 ▪積體電路﹙Integrated circuit, IC﹚晶片的製造步驟:
半導體零件製造 ▪積體電路﹙Integrated circuit, IC﹚晶片的製造步驟: 2.積體電路生產﹙ Integrated circuit production﹚步驟 b.氧化﹙oxidation﹚ 1.二氧化矽是最佳絕緣體,可有效阻斷摻雜劑擴散,強力附著在矽襯底

42 21-2 半導體零件製造 ▪積體電路﹙Integrated circuit, IC﹚晶片的製造步驟:
半導體零件製造 ▪積體電路﹙Integrated circuit, IC﹚晶片的製造步驟: 2.積體電路生產﹙ Integrated circuit production﹚步驟 b.氧化﹙oxidation﹚ 2.建立矽襯底的氧化模型。程序如下: 。乾氧化:矽襯底暴露在多氧氣氛的爐子內,溫度大約是攝氏900度到1200度,此法造成矽表面氧化 。溼氧化:在含蒸汽的大氣中進行,會高速氧化但密度很低 。乾濕過程併用:將矽清洗後,氧化表面塗上已在約攝氏100度的爐子預烘過的光阻材料,即可進行先前提過的光平版印刷術

43 21-2 半導體零件製造 ▪積體電路﹙Integrated circuit, IC﹚晶片的製造步驟:
半導體零件製造 ▪積體電路﹙Integrated circuit, IC﹚晶片的製造步驟: 2.積體電路生產﹙ Integrated circuit production﹚步驟 c.化學蒸汽堆積與摻雜劑擴散﹙Chemical vapour deposition and dopant diffusion﹚ 此法是用來生產在襯底的P型及N型半導體區域,將襯底置於堆積摻雜劑的化學蒸汽中,爐內溫度是攝氏800度到1200度,在爐內,原子從摻雜劑材料擴散到矽襯底,造成矽原子移位

44 21-2 半導體零件製造 ▪積體電路﹙Integrated circuit, IC﹚晶片的製造步驟:
半導體零件製造 ▪積體電路﹙Integrated circuit, IC﹚晶片的製造步驟: 2.積體電路生產﹙ Integrated circuit production﹚步驟 d. 金屬蒸汽堆積﹙Metal vapour deposition﹚ 此法是用來生產導體,一般是用鋁和鋁合金,但用在高密度就需要鎢,再次使用光平版印刷術和蝕刻產生接合通道,因為金屬導體必須互通才能使積體電路運作 真空堆積方面是晶片置於熔化堆積材料的真空狀態,在真空狀態下,金屬在鄰近表面沸騰、堆積。此步驟很有組織,金屬蒸汽從溶液直線擴散,塗在表面上

45 21-2 半導體零件製造 ▪積體電路﹙Integrated circuit, IC﹚晶片的製造步驟:
半導體零件製造 ▪積體電路﹙Integrated circuit, IC﹚晶片的製造步驟: 2.積體電路生產﹙ Integrated circuit production﹚步驟 經由以上a-d的製程在晶片上進行無數次後,就產生積體電路,但要自動化測試,透過電腦程式掃瞄,將有瑕疵的積體電路用鑽石鋸片分開或在積體電路間劃線,並將其折斷如瓦片切割。在製程中此步驟稱IC為鑴模﹙dies﹚

46 21-2 半導體零件製造 ▪積體電路﹙Integrated circuit, IC﹚晶片的製造步驟:
半導體零件製造 ▪積體電路﹙Integrated circuit, IC﹚晶片的製造步驟: 3.積體電路的包裝﹙Packaging of integrated circuits﹚ ▪個別鑴模很脆弱又容易折損,所以要有保護套 ▪保護套需要提供實際規格連接,使鑴模和電路在印刷電路板上接合 ▪藉著鑴模背面金屬化,使鑴模可附上保護套或包裝,再用軟焊將鑴模焊接到包裝的金屬板上,或是用環氧樹脂黏合 ▪鑴模的金屬化接觸襯墊是前述的蒸汽堆積法所產生,用壓力或超音波結合技巧,使接觸襯墊和包裝導線接合,然後封閉包裝,但必須確定沒有溼氣或污染

47 ▪積體電路﹙Integrated circuit, IC﹚晶片的製造步驟:
半導體零件製造 ▪積體電路﹙Integrated circuit, IC﹚晶片的製造步驟: 3.積體電路的包裝﹙Packaging of integrated circuits﹚ 包裝完作最後測試,測試必須有高可信賴度,例如航空和軍事用途,包裝要測試高溫、溫度週期、震動等,以確保電路不會提早結束耐用年數

48 潔淨室﹙Clean rooms﹚ 潔淨室概念 ▪積體電路規格是1μm以內,所以製造時雜質粒子的污染是很嚴重的問題。例如,人的頭髮直徑是30-100μm ,細菌是 μm ,為了防止雜質粒子的污染,半導體製造室及其他精細裝配作業必須建立“潔淨室” ,確保環境清潔

49 21-3 潔淨室﹙Clean rooms﹚ 潔淨室概念 ▪污染的防止
2.為了確定只有乾淨空氣存在,所以在潔淨室和工廠外面間必須確定有正氣壓差。此壓力差可確定空氣只從潔淨室逃出,而外面空氣必須經過過濾系統才能進入 3.空氣進入潔淨室可以過濾,但人在潔淨室裡也是污染的主要來源。為了杜絕污染,操作員要穿戴外科面罩、手套、頭罩以及長袍

50 第二十二章 印刷電路板概論 22-1 印刷電路板製造﹙Printed circuit board manufacture﹚
第二十二章 印刷電路板概論 22-1 印刷電路板製造﹙Printed circuit board manufacture﹚ 電子產品本身很少使用個別的積體電路,通常離散零件有操作特徵,防止小型化,舉例來說: 零件不可累積,像感應器、大型電阻器需要額外散熱,大型電容器、動力電晶體、分壓器、機械開關和其他積體電路,均需要一個方法可容納所有零件,使零件可彼此接合,也能與外界接合。印刷電路板﹙PCB﹚就提供了這個方法 印刷電路板適用不同型式和複合體,通常很硬,但有的又富彈性,用紙或玻璃強化塑膠樹脂製作,塗上銅箔,板面的導電軌道是由網板印刷或光平板印刷術及蝕刻所產生的。電路板可能是單邊﹙導電軌道只在一邊﹚、雙邊,也使用多層板

51 22-1 印刷電路板製造 印刷電路板製造的幾個重要程序
●襯底製造﹙substrate manufacture﹚ 電路板襯底要在潔淨室製造,因為銅面上的任何污染會影響電路板在運作的功能,至於單邊和雙邊板,通常用電鍍生產的銅箔放在壓機裡高度磨光面的鋼板上 通常一台壓機有很多平板,所以在每次壓製過程可以生產數片的電路板。一般而言, 電路板的生產必須是標準規格,才能在後 面的步驟用於自動設備上。 ●預處理﹙pre-processing﹚ 是為 增加電路板的特性,以定位孔輔助電路板能依序在適當的位置;也需要用到選擇標籤來助於後面的自動操作,在每項步驟貼上條碼或字數元,給電路板附上特別標示。清洗後再進行下一步驟

52 22-1 印刷電路板製造 印刷電路板製造的幾個重要程序 使用蝕刻溶液如銅氯化物及鹽酸可去除曝光銅面
●光平板印刷術﹙photolithography﹚ 光阻劑會塗在一層感光聚合物上,在兩片乾覆蓋薄膜間放入聚合物,並由軋輥供應。 移開一塊覆蓋膜使聚合物可直接作用到電路板上,第二塊薄膜可移可不移,直到下一個步驟,將電路板暴露在經由所需軌道佈置影像的光罩所投射的紫外線中 ●蝕刻﹙etching﹚ 使用蝕刻溶液如銅氯化物及鹽酸可去除曝光銅面 通常是在電路板上用噴霧比全部浸沒更能有效控制 蝕刻後再去除殘餘絕阻材料,在印刷電路板面上可以產生所要的銅軌道

53 22-1 印刷電路板製造 印刷電路板製造的幾個重要程序 ●鑽孔﹙drilling﹚
是用來產生零件導線和銷所用的孔,鑽孔位置的精確性很重要,因為零件插入是自動操作 好多片電路板可同時鑽孔,鑽孔可由CNC操控 機械自動鑽孔的型式是根據設計電路板佈置的電腦輔助設計﹙CAD﹚系統所提供的資訊 ●電路板修整﹙board finishing﹚ 在電路板上有裸銅軌道和陸地﹙接觸點的四周拓寬軌道﹚ ,為了防止銅氧化,要加上焊劑塗層,可採用電鍍或軋輥鍍錫法

54 22-2 印刷電路板零件裝配﹙Assembling components to printed circuit boards﹚
a.零件型式﹙Component configurations﹚ b.導引零件的裝配法﹙Assembly methods for leaded components ﹚ c.表面安裝零件裝配法﹙Assembly methods for SMDS ﹚

55 22-2 印刷電路板零件裝配 a.零件型式 1.導引類:有軸、徑向或對偶導線 2.表面安裝類:沒有導線
印刷電路板零件裝配 a.零件型式 ●電子零件可分為: 1.導引類:有軸、徑向或對偶導線 2.表面安裝類:沒有導線 3.非標準類:非標準零件可能是邊接頭、開關、變壓器等, 通常離散電阻器有軸向導線,電晶體有徑向,積體電路為對偶導線 軸向及徑向導引零件通常用邊帶或鏈帶包裝,對偶導線零件用線性管匣包裝,以及表面安裝設備零件用泡帶或桿管包裝

56 印刷電路板零件裝配 b.導引零件的裝配法 ●用人工、自動化、或兩種方法均用,將電子零件裝配到印刷電路板上 ●人工裝配法是用在較短的生產流程,或是生產速率相當慢,每小時最高500個零件,或者各零件用其他方法很難裝配時才會採用 ●自動裝配用在大量生產,通常使用工業機器人,產量每小時約1800個零件可供裝配,又可隨意修改機器人的程式以符合產品需求,至於高速率生產,每小時最高可達30000個供自動裝配

57 22-2 印刷電路板零件裝配 c.表面安裝零件裝配法 兩種使用方法: ●第一種是黏合劑和波形焊接,這個方法在印刷電路板的適當點使用黏合劑
印刷電路板零件裝配 c.表面安裝零件裝配法 ●表面安裝零件沒有導線,需要不同的技術將零件安裝在印刷電路板上,也要使用焊接 兩種使用方法: ●第一種是黏合劑和波形焊接,這個方法在印刷電路板的適當點使用黏合劑 ●第二種方法稱為焊糊劑與再流動焊接法,在這個方法,焊劑是黏合劑也是導體,這個漿劑在焊劑裡確實是粉狀焊劑的懸浮物

58 22-3 結論 ●沒有覆蓋的區域是測試區,裝配完成需要經過不同測試
結論 ●電子零件和裝配的製造有很多方法,但是需要科學及工程學不同的資訊 ●沒有覆蓋的區域是測試區,裝配完成需要經過不同測試 ●特殊測試設備,人工視覺系統,以及可使電路板熱循環、 高濕度條件與震動等,均是用於確定產品可達到國際市場要求的高品質


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