Download presentation
Presentation is loading. Please wait.
1
LEWATIT® MonoPlus SP 112 产品信息
• 工业蒸汽发生器顺流过程中水的脱矿物质,或者用于现在逆流过程系统,如: Lewatit ® WS 系统,Lewatit ® Liftbed 系统,Lewatit ® Rinsebed 系统。 • Lewatit ® Multistep 系统中用作精制剂,或者传统混床中与Lewatit ® MonoPlus M 500 配合使用 • 冷凝水的软化 • 与Lewatit ® MonoPlus MP 500 配合使用精制冷凝水 • 去除生产用水流(金属,塑料等)中的阳离子 Lewatit ® MonoPlus SP 112 使树脂床拥有了以下特点: • 在再生和装填过程中有很高的交换流速。 • 很好的利用了体积全交换容量。 • 冲洗水用量低。 • 再生剂、水和溶液均匀的生产能力,由此有均一的工作区。 • 整个床层深度有几乎线性变化的压降梯度,由此使得在更深的床层条件下进行操作成为可能。 如果采用的技术和过程符合当前的发展,这个产品的特殊性质能得到充分运用。如您需要这方面深层次的建议,请与朗盛公司离子交换树脂业务部联系。
2
粒径分布* 平均粒径+/-0.05mm vol. % >90 堆积密度 (+/-5%) g/l 740
概要: 供应类型: Na+ 聚合物类型: 交联聚苯乙烯 官能团: 磺酸 结构: 大孔型 外观形态: 米色-灰色,不透明 物化特性: 均一系数* max 平均粒径* mm (+/-0.05) 粒径分布* 平均粒径+/-0.05mm vol. % >90 堆积密度 (+/-5%) g/l 密度 app. g/ml 含水量 wt. % 体积全交换容量* min. eq/l 体积变化 Na+ ->H max. vol.% 稳定性 pH 储存期 max. 年 储存温度 oC *这些数据是特定值,需要持续监测。
3
压力损失 (15oC) approx. kPa*h/m2 0.8 最大允许压力损失 kPa 300
推荐操作条件*: 操作温度 max. oC 操作酸碱度 树脂床高度 min. mm 压力损失 (15oC) approx. kPa*h/m 最大允许压力损失 kPa 线速度 工作 max. m/h *** 线速度 反洗(20oC) approx. m/h 树脂床膨胀率 (20 oC. Per m/h) app.vol.% 空塔空间 反洗(外部/内部) vol. % 再生剂 HCl H2SO4 NaCl 逆流再生水平 app. g/l 逆流再生浓度 wt.% /3** 线速度 再生 app.m/h 线速度 冲洗 app.m/h 顺流再生水平 app.g/l 顺流再生浓度 app. wt. % /3** 8-10 线速度 再生 app.m/h 线速度 冲洗 app.m/h 冲洗用水量 慢/快 app.BV *推荐操作条件是指在正常条件下使用产品。这是基于试验工厂的测试和工业应用中获得的数据。然而,要计算离子交换设备所需的树脂量还需要额外的数据。那些数据可以从我们的技术信息表中获得。 ** 循序渐进的再生 *** 精制100m/h
4
强氧化剂,如硝酸,与离子交换树脂接触能引发剧烈的反应。
额外信息及规则: 安全防范 强氧化剂,如硝酸,与离子交换树脂接触能引发剧烈的反应。 毒性 请参考安全数据表。它包含如产品描述、运输、仓储、处理、安全和生态环保 废品处理 在欧共体,必须依照欧洲废品命名法来处理离子交换树脂,该命名法可从欧盟网站上获取。 储存 建议将离子交换树脂储存于干燥、没有阳光直射的室内,储存温度应高于水的冰点。如果树脂冻结,不能用机械方法处理,将其置于环境温度中逐步解冻。在处理或使用前,应当使树脂完全解冻。不能试图去加速解冻过程。 朗盛德国有限公司 离子交换树脂业务部 勒沃库森,德国 客户对于我方产品的使用方式和目的,技术帮助和信息(不论是口头的、书面的,还是以产品评价形式),包括任何建议的公式和推荐条件,都超出我们的控制范围。因此,客户必须测试我们的产品、技术帮助和信息,来确定它们是否适合您期望的应用和用途。这种针对应用的分析必须至少包括从技术、健康、安全、环境的立场测试以确定适合性。这类测试不是我方必需做的。除非我们另外以书面形式同意,所有销售的产品严格依照我们的销售标准条款。所有提供的信息和技术帮助,我们不提供担保和保证,它们可以在没有通知的情况下被改变。客户应理解和同意,在与使用我们的产品、技术帮助和信息有关的情况下,招致的所有责任、侵权、合同及其它,我们都不负任何责任。在这里没有包含的任何声明或建议,都是未经授权的,都不会对我们构成约束。这里包含的任何内容都不能被理解为对任何产品使用方面的推荐建议,这类产品与涉及任何材料及其应用的专利相冲突。任何专利的主张不隐含或事实上不包含对该专利的许可使用。
Similar presentations