光电子技术学课件之十五: ——第五章光电成像系统 (1)

Slides:



Advertisements
Similar presentations
模拟电子技术基础 安徽理工大学电气工程系 主讲 :黄友锐 第四讲. 2.2 场效应半导体三极管 绝缘栅场效应三极管的工作原理 伏安特性曲线 结型场效应三极管 场效应三极管的参数和型号 双极型和场效应型三极管的比较.
Advertisements

2.8 函数的微分 1 微分的定义 2 微分的几何意义 3 微分公式与微分运算法则 4 微分在近似计算中的应用.
光伏-产业链介绍 汪 雷 浙江大学硅材料国家重点实验室.
FD班座谈会 -结合学校目标 找准自己位置-
光电信息技术 光电成像器件 中原工学院 参考书: 《光电成像原理》,邹异松等,北京理工大学出版社.
4 场效应管放大电路 4.1 结型场效应管 *4.2 砷化镓金属-半导体场效应管 4.3 金属-氧化物-半导体场效应管
5 场效应管放大电路 5.1 金属-氧化物-半导体(MOS)场效应管 5.2 MOSFET放大电路 5.3 结型场效应管(JFET)
第4章 场效应管及其电路 4.1 绝缘栅场效应管(MOSFET) N沟道增强型场效应管(NMOS管)
第四讲 组织结构与人员配置 复旦大学管理学院 芮明杰教授
第13章   固态图像传感器 图像传感器:利用光电器件的光-电转换功能,将其感光面上的光像转换为与光像成相应比例关系的电信号“图像”的一种功能器件, 固态图像传感器:在同一半导体衬底上布设的若干光敏单元与移位寄存器构成的集成化、功能化的光电器件。光敏单元简称为“像素”或“像点”。 特点:集成度高、尺寸小、电压低(DC7~12V)、
第八章 光电器件.
第6章 ccd和cmos成像器件 6.1 图像传感器简介 图像传感器发展历史
实验四 利用中规模芯片设计时序电路(二).
法國大革命                                                                            
第8章光电式传感器 8.1 光电器件 8.2 光纤传感器 8.3 红外传感器 返回主目录.
第6章 光电式传感器.
第04章 光伏探测器 光伏效应: PN结受到光照时,可在PN结的两端产生光生电势差,这种现象则称为光伏效应。 光伏探测器:
第七章 光电式与光导式传感器 应用 领域:工业、农业、 航天、军事等 1、工业检测 (1) 零件的识别与定位 例:双目立体视觉检测系统
新疆自治区“十二五”科技发展 规划编制工作
杂质掺杂 掺杂:将需要的杂质掺入特定的半导体区域中,以达到改变半导体电学性质,形成PN结、电阻、欧姆接触 掺杂工艺:扩散、离子注入
§2.3 MOS场效应晶体管 分类 场效应管 Junction type Field Effect Transistor N沟道
第三章 场效应管放大器 3.1 场效应管 3.2 场效应管放大电路 绝缘栅场效应管 结型场效应管 效应管放大器的静态偏置
第四章 MOSFET及其放大电路.
概 述 一、门电路的概念 实现基本逻辑运算和常用复合逻辑运算的电子电路 与 非 门 或 非 门 异或门 与或非门 与 非 与 与 门 或 门
现代电子技术实验 4.11 RC带通滤波器的设计与测试.
CCD图像传感器 光信息91 王哲也
第1章 半导体二极管、三极管和场效应管 1.1 半导体的导电特性 1.2 PN结 1.3 半导体二极管 1.4 稳压管 1.5 半导体三极管
NaI(TI)单晶伽马能谱仪实验验证 朱佩宇 2008年1月3日.
2.2.1 绝缘栅场效应三极管的工作原理 Semiconductor FET)。分为 增强型  N沟道、P沟道 耗尽型  N沟道、P沟道
晶体管及其小信号放大 -场效应管放大电路.
光电子技术学课件之十五: ——第五章光电成像系统 (1)
实验六 积分器、微分器.
SATT 系列300MHz~3.5GHz数控衰减器 仪器级的性能,极富竞争力的价格
SATT 系列10MHz~4GHz数控衰减器 仪器级的性能,极富竞争力的价格
數位像機 Digital camera.
CPU结构和功能.
多媒体技术 中南大学信息科学与工程学院 黄东军.
第一章 半导体材料及二极管.
第二章 双极型晶体三极管(BJT).
第8章 静电场 图为1930年E.O.劳伦斯制成的世界上第一台回旋加速器.
Positive gate bias-Induced Reliability in IGZO TFT
DV-830-3系列50米点阵式红外摄像机.
从物理角度浅谈 集成电路 中的几个最小尺寸 赖凯 电子科学与技术系 本科2001级.
10.2 串联反馈式稳压电路 稳压电源质量指标 串联反馈式稳压电路工作原理 三端集成稳压器
光电传感器另讲 光电传感器是采用光电元件做为检测元件的传感器。它首先把被测量的变化转换成光信号的变化,然后借助光电元件进一步将光信号转换成电信号。光电传感器一般由光源、光学通路和光电元件三部分组成。光电检测方法具有精度高、反应快、非接触等优点,而且可测参数多,传感器的结构简单,形式灵活多样,因此在检测和控制领域内得到广泛应用。
激光器的速率方程.
诺 金 EE07系列 小型OEM数字输出温湿度变送器 产品特点: 典型应用: ► 气象应用 ► 加湿器、除湿器 技术参数: 选型指南:
长春理工大学 电工电子实验教学中心 数字电路实验 数字电路实验室.
§6.7 子空间的直和 一、直和的定义 二、直和的判定 三、多个子空间的直和.
3.1 变化率与导数   3.1.1 变化率问题 3.1.2 导数的概念.
2013年第二学期计划 王玲
《数字电子技术基础》(第五版)教学课件 清华大学 阎石 王红
第八章 总线技术 8.1 概述 8.2 局部总线 8.3 系统总线 8.4 通信总线.
PowerPoint 电子科技大学 半导体器件的图测方法.
第六节 用频率特性法分析系统性能举例 一、单闭环有静差调速系统的性能分析 二、单闭环无静差调速系统的性能分析
4 场效应管放大电路 4.1 结型场效应管 *4.2 砷化镓金属-半导体场效应管 4.3 金属-氧化物-半导体场效应管
第三章 基本放大电路及其分析方法 第七节 场效应管(FET)及其放大电路 一、结型场效应管 二、绝缘栅场效应管
GIS基本功能 数据存储 与管理 数据采集 数据处理 与编辑 空间查询 空间查询 GIS能做什么? 与分析 叠加分析 缓冲区分析 网络分析
LCS之自由电子激光方案 吴钢
信号发生电路 -非正弦波发生电路.
第四章 MOSFET及其放大电路.
阳极氧化近期实验计划
光电子技术学课件之十六: ——第五章光电成像系统 (2)
商品摄影选讲课件 ——13电子商务.
《智能仪表与传感器技术》 第一章 传感器与仪表概述 电涡流传感器及应用 任课教师:孙静.
课程名称:模拟电子技术 讲授内容:放大电路静态工作点的稳定 授课对象:信息类专业本科二年级 示范教师:史雪飞 所在单位:信息工程学院.
入侵检测技术 大连理工大学软件学院 毕玲.
混沌保密通讯 实验人 郝洪辰( ) 李 鑫( ).
第 10 章 运算放大器 10.1 运算放大器简单介绍 10.2 放大电路中的负反馈 10.3 运算放大器在信号运算方面的应用
9.6.2 互补对称放大电路 1. 无输出变压器(OTL)的互补对称放大电路 +UCC
Presentation transcript:

光电子技术学课件之十五: ——第五章光电成像系统 (1) 光电子技术学课件之十五: ——第五章光电成像系统 (1) §1 固体摄像器件 制作者: 赣南师范学院物理与电子信息学院: 王形华

教学目的 教学重点与难点 1、掌握CCD的结构和工作原理、光电 成像原理、光电成像光学系统; 2、了解微光像增强器件和纤维光学成 像原理。 光电成像光学系统的组成。 难点:CCD的结构和工作原理、调制传递函数 的分析。

§0 光电成像概述 一、光电成像系统的分类: 按照光电成像系统对应的光波长范围,光电成像系统可以分为:可见光、紫外光、红外光、 X光光电成像系统。

二、光电成像系统要研究的问题 光电成像涉及到一系列复杂的信号传递过程。有四个方面的问题需要研究: 能量方面——物体、光学系统和接收器的光度学、辐射度学性质,解决能否探测到目标的问题 成像特性——能分辨的光信号在空间和时间方面的细致程度,对多光谱成像还包括它的光谱分辨率

噪声方面——决定接收到的信号不稳定的程度或可靠性 信息传递速率方面—— 成像特性、噪声信息传递问题,决定能被传递的信息量大小

三、光电成像系统基本组成的框图 其中光电成(摄)像器件是光电成像系统的核心。

§1 固体摄像器件 固体摄像器件的功能:把入射到传感器光敏面上按空间分布的光强信息(可见光、红外辐射等),转换为按时序串行输出的电信号—— 视频信号。其视频信号能再现入射的光辐射图像。

固体摄像器件主要有三大类: 电荷耦合器件(Charge Coupled Device,即CCD) 互补金属氧化物半导体图像传感器(即CMOS) 电荷注入器件(Charge Injenction Device, 即CID) 目前,前两种用得较多,我们这里只分析CCD一种。

一、电荷耦合摄像器件 CCD的基本功能——电荷存储和电荷转移。 CCD工作过程——信号电荷的产生、存储、传输和检测的过程。

1、电荷耦合器件的基本原理 (1)、 CCD的基本结构包括:转移电极结构、转移沟道结构、信号输入结构、信号输出结构、信号检测结构。构成CCD的基本单元是MOS电容。

一系列彼此非常接近的MOS电容用同一半导体衬底制成,衬底可以是P型或N型材料,上面生长均匀、连续的氧化层,在氧化层表面排列互相绝缘而且距离极小的金属化电极(栅极)。

(2)、电荷存储 以衬底为P型硅构成的MOS电容为为例。 当在金属电极加上一个正阶梯电压时,在Si-SiO2界面处的电势发生变化,附近的P型硅中的多数载流子-空穴被排斥,形成耗尽层。如果栅极电压超过MOS晶体管 的开启电压,则在Si-SiO2界面处形成深度尽状态,电子在那里势能较低-形成了一个势阱。如有信号电子,将聚集在表面,实现电荷的存储。此时耗尽层变薄。势阱的深浅决定存储电荷能力的大小。

(3)、电荷转移 CCD的转移电极相数有二相、三相、四相等。对于单层金属化电极结构,为了保证电荷的定向转移,至少需要三相。这里以三相表面沟道CCD为例。 表面沟道器件,即 SCCD(Surface Channel CCD)——转移沟道在界面的CCD器件。

表面沟道器件的特点: 工艺简单,动态范围大,但信号电荷的转移受表面态的影响,转移速度和转移效率底,工作频率一般在10MHz以下。

体内沟道(或埋沟道CCD): BCCD(Bulk or Buried Channel CCD)——用离子注入方法改变转移沟道的结构,从而使势能极小值脱离界面而进入衬底内部,形成体内的转移沟道,避免了表面态的影响,使得该种器件的转移效率高达99.999%以上,工作频率可高达100MHz,且能做成大规模器件。

(4)、光信号的注入 CCD的电荷注入方式有电信号注入和光信号注入两种,在光纤系统中, CCD接收的信号是由光纤传来的光信号,即采用光注入CCD。 当光照到CCD时,在栅极附近的耗尽区吸收光子产生电子-空穴对,在栅极电压的作用下,多数载流子(空穴)流入衬底,少数载流子(电子)被收集在势阱中,存储起来。这样能量高于半导体禁带的光子,可以用来建立正比于光强的存储电荷。 光注入的方式常见的有:正面照射和背面照射方式。

(5)、电荷检测 (输出) CCD输出结构是将CCD传输和处理的信号电荷变换为电流或电压输出。 电荷输出结构有多种形式,如电流输出结构、浮置扩散输出结构、浮置栅输出结构等。浮置栅输出结构应用最广。

OG:输出栅,FD:浮置扩散区,R:复位栅,RD:复位漏,T:输出场效应管。 浮置栅是指在P型硅衬底表面用V族杂质扩散形成小块的n+区域,当扩散区不被偏置,其处于浮置状态。

电荷包的输出过程:VOG为一定值的正电压,在OG电极下形成耗尽层,使Φ3与FD之间建立导电沟道。在Φ3高电位期间,电荷包存储在Φ3电极下面。随复位栅R加正复位脉冲ΦR ,使FD 区与RD区沟通。因V RD为正十几伏的直流偏置电压,则FD区的电荷被RD区抽走。复位正脉冲过去后, FD 区与RD区呈夹断状态, FD 区具有一定的浮置。之后Φ3转变为底电位, Φ3电极下面的电荷包通过OG下的沟道转移到FD 区。

浮置 栅CCD放大输出信号的特点是:信号电压是在浮置电平基础上的负电压;每个电荷包的输出占有一定的时间长度T;在输出信号中叠加有复位期间的高电平脉冲。

2、电荷耦合摄像器件的工作原理 CCD的电荷存储、转移的概念 + 半导体的光电性质——CCD摄像器件 按结构可分为线阵CCD和面阵CCD 按光谱可分为可见光CCD、红外CCD、X光CCD和紫外CCD 可见光CCD又可分为黑白CCD、彩色CCD和微光CCD

(1)线阵CCD 线阵CCD可分为双沟道传输与单沟道传输两种结构。下图(a)为单沟道,(b)为双沟道。

二、电荷耦合摄像器件的特性参数