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第三章 二极管及其基本电路 2018年3月.

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1 第三章 二极管及其基本电路 2018年3月

2 §3-1半导体的基本知识 现代电子器件是由性能介于导体与绝缘体之间的半 导体材料制造而成的。
常用的半导体材料有:元素半导体,如硅(Si)、锗 (Ge)等;化合物半导体,如砷化镓(GaAs)等;以及 掺杂或制成其他化合物半导体的材料,如硼(B)、磷 (P)、铟(In)和锑(Sb)等。硅是最常用的半导体材料。 半导体除了在导电能力方面与导体和绝缘体不同外, 还具有不同于其他物质的特点,如,当半导体受到 外界光和热的刺激时,其导电能力将发生显著的变 化;在纯净的半导体中加入微量的杂质,其导电能 力也会有显著的增加。

3 半导体的共价键结构 硅和锗的原子结构简化模型
硅和锗都是四价元素,最外层原子轨道上具有四个电子,称 为价电子。由于原子呈中性,故原子核用带圆圈的+4符号表 示。物质的化学性质由价电子决定,半导体的导电性质与价 电子有关。 硅和锗的原子结构简化模型

4 本征半导体 本征半导体是一种纯净的结构完整的半导体晶体。
电导率是半导体的重要物理特性,与材料内单位体积 中所含的电荷载流子的数目有关,电荷载流子的浓度 愈高,其电导率愈高。 半导体内载流子的浓度取决于许多因素,包括材料的 基本性质、温度以及所含的杂质。 在T=0K和没有外界激发时,由于每一原子的外围电 子被共价键所束缚,这些束缚电子对半导体内的传导 电流没有贡献。 当温度升高时,键内电子因热激发而获得能量。其中 获得能量较大的一部分价电子,能够挣脱共价键的束 缚离开原子而成为自由电子。与此同时在共价键内留 下了与自由电子数目相同的空位。

5 空穴 当电子挣脱共价键的束缚成为自由电子后,共价键中就留下一 个空位,这个空位叫做空穴。空穴是半导体区别于导体的一个 重要特点。

6 空穴导电 由于共价键中出现了空穴,在外加电场的作用下,邻近价电子就可填补到这个空位上,而在这个电子原来的位置上又留下新的空位,其他电子又可转移到这个新的空穴,这样就使共价键中出现电荷迁移。 共价键中空穴或束缚电子移动产生电流的根本原因是 由于共价键中出现空穴引起的。空穴的运动是靠相邻 共价键中的价电子依次充填空穴来实现的。 把空穴看成是一个带正电的粒子,所带的电量与电子 相等,符号相反,在外加电场作用下,可以自由地在 晶体中运动,从而和自由电子一样导电。因此空穴是 一种载流子,空穴越多,半导体中的载流子数目就越 多,因此形成的电流就愈大。

7 本征载流子 在本征半导体中,由于本征激发,不断地产生自由电子- 空穴对,使载流子浓度增加。温度越高,产生率越高。
与此同时,又会有相反的过程发生:复合。 复合率=产生率,达到动态平衡。 本征载流子浓度: ni,pi分别表示电子和空穴的浓度(cm–3 );T为热力学温度(K);EG0为T=0K时的禁带宽度(硅为1.21eV,锗为0.78eV);k为玻尔兹曼常数(8.63×10–6 V/K);A0是与半导体材料有关的常数(硅为3.87×1016cm-3·K-3/2,锗为1.76×1016cm-3·K-3/2)

8 杂质半导体 在本征半导体中掺入微量的杂质,就会使半导体的 导电性能发生显著的改变。
因掺入杂质的性质不同,杂质半导体可分为空穴(P) 型半导体和电子(N)型半导体两大类。

9 P型半导体 在本征硅或锗的晶体内掺入少量三价元素杂质,如硼(或铟)等,因硼原子只有三个价电子,它与周围硅原于组成共价键时,缺少一个电子,在晶体中便产生一个空位。 当相邻共价键上的电子受到热振动或在其他激发获得能量时,有可能填补这个空位,使硼原子成为不能移动的负离子;而原来硅原子的共价键,则因缺少一个电子,形成了空穴。 因为硼原子在硅晶体中能接受电子,故称硼为受主杂质或P型杂质,受主杂质除硼外尚有铟和铝。加入砷化镓的受主原子包括元素周期表中的II族元素(作为镓原子的受主)或IV族元素(作为砷原子的受主)。

10 P型半导体的共价键结构 P型半导体在产生空穴时,不产生新的自由电子。控 制掺入杂质的多少,便可控制空穴数量。

11 N型半导体 为了在半导体内产生多余的电子,可以将一种叫做施 主杂质或N型杂质掺入本征硅(或锗)的晶体内。
施主原子在掺杂半导体的共价键结构中多余一个电子。 典型的施主原子有磷、砷和锑。在砷化镓工艺中,施 主原子包括元素周期表中的VI族元素(作为砷原子的 施主)或IV族元素(作为镓原子的施主)。 当一个施主原子加入半导体后,其多余的电子易于受 热激发而成为自由电子参与传导电流,它移动后,在 施主原子的位置上留下一个固定的、不能移动的正离 子。 在产生自由电子的同时,并不产生相应的空穴。称为 电子型半导体或N型半导体。在N型半导体中,电子 为多数载流子,空穴为少数载流子。

12 N型半导体的共价键结构 在掺入杂质后,载流子的数目都有相当程度的增加。 若每个受主杂质都能产生一个空穴,或者每个施主杂 质都能产生一个自由电子,则尽管杂质含量很微,但 它们对半导体的导电能力却有很大的影响。

13 杂质半导体的载流子浓度 在热平衡下,多子浓度值与少子浓度值的乘积恒等于本征载流子浓度值ni的平方。
掺入杂 质对本征半导体的导电性有很大的影 响,一些典型的数据如下: T=300 K室温下,本征硅的电子和空穴浓度: n = p =1.4×1010/cm3 掺杂后 N 型半导体中的自由电子浓度: n=5×1016/cm3 本征硅的原子浓度: 4.96×1022/cm3 以上三个浓度基本上依次相差百万倍

14 本节中的有关概念 本征半导体、杂质半导体 自由电子、空穴 本征激发 施主杂质、受主杂质 N型半导体、P型半导体 多数载流子、少数载流子

15 §3-2 PN结的形成及特性 在室温下, P型半导体中含有的受主杂质电离为带 正电的空穴和带负电的受主离子。N型半导体中含 有的施主杂质电离为带负电的电子和带正电的施主 离子。 P型和N型半导体中还有少数受本征激发产生的电子 和空穴,通常本征激发产生的载流子要比掺杂产生 的少得多。 半导体中的正负电荷数是相等的,它们的作用互相 抵消,因此保持电中性。

16 PN结的形成 在一块本征半导体在两侧通过扩散不同的杂质,分别 形成N型半导体和P型半导体。在它们的交界处就出 现了电子和空穴的浓度差别,N型区内电子多而空穴 少,P型区内则相反,空穴多而电子少。 电子和空穴都要从浓度高的地方向着浓度低的地方扩 散。电子要从N型区向P型区扩散,空穴要从P型区 向N型区扩散。 电子和空穴都是带电的,它们扩散的结果就使P区和 N区中原来保持的电中性被破坏了。

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18 耗尽区 P区一边失去空穴,留下了带负电的杂质离子;N区 一边失去电子,留下了带正电的杂质离子。
半导体中的离子虽然带电,但由于物质结构的关系, 它们不能任意移动,因此不参与导电。这些不能移 动的带电粒子通常称为空间电荷,集中在P区和N区 交界面附近,形成了一个很薄的空间电荷区,这就 是PN结。 在这个区域内,多数载流子已扩散到对方并复合掉 了,或者说消耗尽了,因此空间电荷区有时又称为 耗尽区。扩散越强,空间电荷区越宽。

19 势垒区 PN结的空间电荷区存在电场,电场的方向是从N区 指向P区的,这说明N区的电位要比P区高,高出的 数值用V0表示,这个电位差称为接触电位差,一般 为零点几伏。 在PN结空间电荷区内,电子势能(-qV0)发生了变化, 电子要从N区到P区必须越过一个能量高坡,一般称 为势垒,因此又把空间电荷区称为势垒区。

20 扩散运动 出现空间电荷区以后,由于正负电荷之间的相互作 用,在空间电荷区中就形成了一个电场,其方向是 从带正电的N区指向带负电的P区。
电场是由载流子扩散运动形成的,称为内电场。 显然,这个内电场的方向是阻止扩散的,因为这个 电场的方向与载流子扩散运动的方向相反。

21 漂移运动 另一方面,根据电场的方向和电子、空穴的带电极 性,这个电场将使N区的少数载流子空穴向P区漂移, 使P区的少数载流子电子向N区漂移,漂移运动的方 向正好与扩散运动的方向相反。 从N区漂移到P区的空穴补充了原来交界面上P区失 去的空穴,从P区漂移到N区的电子补充了原来交界 面上N区所失去的电子,这就使空间电荷减少。 漂移运动的结果是使空间电荷区变窄,其作用正好 与扩散运动相反。 当漂移运动达到和扩散运动相等时,便处于动态平 衡状态。

22 最后,多子的扩散和少子的漂移达到动态平衡。
因浓度差 多子的扩散运动 由杂质离子形成空间电荷区 空间电荷区形成内电场 内电场促使少子漂移 内电场阻止多子扩散 最后,多子的扩散和少子的漂移达到动态平衡。

23 不对称PN结 如果P区和N区的掺杂浓度相同,则耗尽区相对界面对称,称为 对称结。如果一边掺杂浓度大(重掺杂),一边掺杂浓度小(轻 掺杂),则称为不对称结,用P+N或PN+表示(+号表示重掺杂区)。 这时耗尽区主要伸向轻掺杂区一边。

24 PN结的单向导电性 当VF的正端接P区,负端接N区时,外加电场与PN结 内电场方向相反。
(1)外加正向电压 当VF的正端接P区,负端接N区时,外加电场与PN结 内电场方向相反。 在外场作用下,PN结的平衡状态被打破,P区的多数 载流子空穴和N区的多数载流子电子都要向PN结移动。 当空穴进入PN结后,就要和一部分负离子中和,使P 区的空间电荷量减少;当电子进入PN结时,中和了部 分正离子,使N区的空间电荷量减少,结果使PN结变 窄。

25 PN结的单向导电性

26 PN结的单向导电性 耗尽区厚度变薄,耗尽区中载流子增加,因而电阻减 小,所以这个方向的外加电压称为正向偏置电压。
半导体的体电阻和PN结电阻相比是很小的,外加电 压将集中在PN结上。外加电压将使PN结的电场由E0 减小到E0-EF ,电子的电势能将由-qV0减为-q(V0-VF), 势垒降低了,P区和N区中能越过势垒的多数载流子 大大增加,形成扩散电流。 扩散运动将大于漂移运动,N区电子不断扩散到P区, P区空穴不断扩散到N区。PN结内的电流便由起支配 地位的扩散电流所决定,在外电路上形成一个流入P 区的电流,称为正向电流IF。外加电压只要稍有变化, 便能引起电流的显著变化。 正向的PN结表现为一个很小的电阻。

27 PN结的单向导电性 (2)外加反向电压 当外加电压VR的正端接N区,负端接P区时,外加 电场方向与PN结内电场方向相同。在这种外电场 作用下,P区中的空穴和N区中的电子都将进一步 离开PN结,使耗尽区厚度加宽,这时PN结处于反 向偏置。

28 PN结的单向导电性

29 PN结的单向导电性 外加电压将使PN结电场由E0增加到E0+ER,电子的电 势能将由-qV0增至-q(V0+VR),使P区和N区中的多数 载流子很难越过势垒,因此扩散电流趋近于零。 由于结电场的增加,使N区和P区中的少数载流子更容 易产生漂移运动,PN结内的电流由漂移电流决定。 漂移电流的方向与扩散电流相反,表现在外电路上有 一个流入N区的反向电流IR,由少数载流子的漂移运 动形成。由于少数载流子浓度很小,所以IR很微弱, 一般为微安数量级。 少数载流子由本征激发产生,其数值决定于温度,几 乎与外加电压VR无关。在一定温度T下,由于热激发 而产生的少数载流子的数量是一定的,电流的值趋于 恒定,反向电流IR就是反向饱和电流,用Is表示。

30 PN结的单向导电性 由于Is很小,所以PN结在反向偏置时,呈现出一个很 大的电阻,可认为它基本是不导电的。
PN结的正向电阻很小,反向电阻很大,这就是它的 单向导电性。PN结的单向导电性关键在于耗尽区的 存在,且其宽度随外加电压而变化。

31 PN结V-I特性的表达式 在硅二极管PN结的两端,施加正、反向电压时,根 据理论分析,PN结的V-I特性可表达为
式中iD为通过PN结的电流,VD为PN结两端的外加电压,VT为温度的电压当量=kT/q=0.026V =26mV,k为波耳兹曼常数(1.38×10-23J/K),T为热力学温度,q为电子电荷(1.6×10-19C);e为自然对数的底;Is为反向饱和电流。

32 PN结的反向击穿 如果加到PN结两端的反向电 压增大到一定数值时,反向电 流突然增加,这个现象就称为 PN结的反向击穿。
发生击穿所需的反向电压VBR称 为反向击穿电压。 PN结电击穿后电流很大,电 压又很高,因而消耗在PN结 上的功率是很大的,容易使 PN结发热超过它的耗散功率。 在强电场作用下,大大地增加了自由电子和空穴的数目,引起反向电流的急剧增加,这种现象的产生分为雪崩击穿和齐纳击穿两种类型。

33 雪崩击穿 雪崩击穿的物理过程为:在轻掺杂的PN结中,当外 加反向电压时,耗尽区较宽,少子漂移通过耗尽区 时被加速,动能增大。在耗尽区内被加速而获得高 能的少子,会与晶体原子发生碰撞,可使共价键中 的电子激发形成自由电子-空穴对,这种现象称为碰 撞电离。 新产生的电子和空穴与原有的电子和空穴一样,在 电场作用下,又获得能量,又可通过碰撞再产生电 子-空穴对,产生倍增效应。当反向电压增大到某一 数值后,载流子的倍增情况就像积雪山坡上发生雪 崩一样,载流子急剧增加,使反向电流急剧增大, 于是PN结就发生雪崩击穿。 雪崩二极管

34 齐纳击穿 在重掺杂的PN结中,耗尽区很窄,所以不大的反向 电压就能在耗尽区内形成很强的电场。当反向电压大 到一定值时,强电场足以将耗尽区内中性原子的价电 子直接拉出共价键,产生大量电子、空穴对,使反向 电流急剧增大。这种击穿称为齐纳击穿或场致击穿。 发生齐纳击穿需要的电场强度约为2×105V/cm,只 有在杂质浓度特别大的PN结中才能达到。 两种电击穿过程是可逆的,当加在PN结两端的反向 电压降低后,PN结可以恢复原来的状态。但要求反 向电流和反向电压的乘积不超过PN结容许的耗散功 率,超过了就会因为热量散不出去而使PN结温度上 升,直到过热而烧毁,这种现象就是热击穿。 齐纳二极管(稳压二极管)

35 PN结的电容特性 扩散电容:PN结正偏时 势垒电容:PN结反偏时 随外加电压的变化而变化,均为非线性 电容。

36 PN结的温度特性 PN结特性对温度变化很敏感,反映在伏安特性上即为:温度升高,正向特性左移,反向特性下移。

37 几个概念 本征激发 自由电子导电 空穴导电 复合

38 §3-3半导体二极管 (a)点接触型 PN结面积小,结电容小,用于检波和变频等高频电路。
半导体二极管的结构:半导体二极管按其结构的不同可分为 点接触型和面接触型两类。 PN结面积小,结电容小,用于检波和变频等高频电路。 (a)点接触型

39 往往用于集成电路制造艺中。PN 结面积可大可小,用于高频整流和开关电路中。
(b)面接触型 (c)平面型 PN结面积大,用于工频大电流整流电路。 往往用于集成电路制造艺中。PN 结面积可大可小,用于高频整流和开关电路中。

40 二极管的V-I特性 二极管的V-I特性和PN结的V-I特性基本上是相同的。

41 正向特性 加于二极管的正向电压只有 零点几伏,但流过管子的电 流却很大,因此管子呈现的 正向电阻很小。
在起始部分,由于正向电压 较小,外电场还不足以克服 PN结的内电场,这时的正向 电流几乎为零。 硅管的门坎电压Vth约为0.5V; 锗管的Vth约为0. 1V。当正向 电压大于Vth时,内电场大为 削弱,电流迅速增长。

42 反向特性 P型半导体中的少数载流子- 电子和N型半导体中的少数 载流子-空穴,在反向电压作 用下很容易通过PN结,形 成反向饱和电流。
由于少数载流子的数目较少, 所以反向电流很小,硅管的 反向电流比锗管小得多。 温度升高时,由于少数载流 子增加,反向电流将随之急 剧增加。

43 反向击穿特性 当增加反向电压时,在一定 温度条件下,少数载流子数 目有限、故起始一段反向电 流没有多大变化。
当反向电压增加到一定大小 时,反向电流剧增,这叫做 二极管的反向击穿,其原因 和PN结击穿相同。

44 二极管的参数 最大整流电流IF :长期运行时,允许通过的最大正向 平均电流。
反向击穿电压VRR:反向击穿时的电压值。一般手册 上给出的最高反向工作电压约为击穿电压的一半。 反向电流IR:未击穿时的反向电流,值愈小,单向导 电性愈好。 极间电容:(1)势垒电容CB; (2)扩散电容CD

45 极间电容 势垒电容CB:PN结交界处 形成的势垒区,是积累空间 电荷的区域,当PN结两端 电压改变时,就会引起积累 在PN结的空间电荷的改变。 扩散电容CD:为了要使P区 形成扩散电流,注入的少数 载流子电子沿P区必须有浓 度差,在结的边缘处浓度大, 离结远的地方浓度小,也就 是说在P区有电子的积累。 同理,在N区也有空穴的积 累。

46 国产半导体二极管参数

47 半导体路件型号命名方法 2AP7

48 型号组成部分的符号及意义

49 §3-4二极管基本电路及分析方法 二极管是一种非线性器件,因而 二极管电路一般要采用非线性电 路的分析方法。
理想模型:由图a可见,在正向 偏置时,其管压降为0V,而当二 极管处于反向偏置时,认为它的 电阻为无穷大,电流为零。虚线 表示实际二极管的V-I特性。 在实际的电路中,当电源电压远 比二极管的管压降大时,利用此 法来近似分析是可行的。

50 恒压降模型 基本思想是当二极管导通后, 其管压降认为是恒定的,且不 随电流而变,典型值为0.7V。 不过,这只有当二极管的电流 iD近似等于或大于l mA时才是 正确的。 该模型提供了合理的近似,因 此应用也较广。

51 小信号模型 如果二极管在它的V-I特性的某一 小范围内工作,如在静态工作点 Q(即V-I特性上的一个点,vD=VD, iD=ID)附近工作,则可把V-I特性看 成一条直线,其斜率的倒数就是 所要求的小信号模型的微变电阻rd。

52 折线模型 为了较真实地描述二极管V-I特性, 认为二极管的管压降不是恒定的, 而是随着流过二极管电流的增加而 增加,所以在模型中用一个电池和 一个电阻rD来作进一步的近似。 电池的电压选定为二极管的门坎电 压Vth,约为0.5V。rD的值为当二极 管的导通电流为l mA时,管压降为 0.7V的值

53 一限幅电路,R=1k,VREF=3V。 (1)vI=0V、4V、6V时,求相应的输出 电压vo的值;(2)当vI =6sint时,绘出 相应的输出电压vo的波形。 解:(1) 选用折线模型来分析,其等效电路如图b,设Vth=0.5V,rD=200 。 当vI=0V时,二极管截止,vo=vI 当vI=4V时, 当vI=6V时,

54 解答 (2) 输入电压为幅值等于6V的正弦电压,所以(1)中所得 的结果可以用来绘制输出电压的波形。

55 静态分析 例:求VDD=10V时,二极管的 电流ID、电压VD 值。 1. 理想模型 正向偏置时: 管压降为0,电阻也为0。 反向偏置时: 电流为0,电阻为∞。 当iD≥1mA时, vD=0.7V。 2. 恒压降模型 3. 折线模型

56 例:理想二极管电路中 vi= Vm sinωt V,求输出波形vo。
Vm VR 解: Vi> VR时,二极管导通,vo=vi。 Vi< VR时,二极管截止, vo=VR。

57 开关电路 在开关电路中,利用二极管的单向导电性可以接通 或断开电路,在数字电路中得到广泛的应用。
在分析这种电路时,应当掌握一条基本原则,即判 断电路中的二极管处于导通状态还是截止状态,可 以先将二极管断开,然后计算阳、阴两极间是正向 电压还是反向电压、若是前者则二极管导通,否则 二极管截止。

58 二极管开关电路如图。当vI1和vI2为0V或5V时,求vI1和vI2的值不同组合情况下,输出电压vo的值。设二极管是理想的。
解: vI1 vI2 二极管工作状态 D D2 vo 0V V 导通 导通 0V 0V V 导通 截止 0V 5V V 截止 导通 0V 5V V 截止 截止 5V

59 把0V看作数字0,5V看作数字1,则这个电路实现了 与门电路
或门电路? 将二极管反接,Vcc换成接地(GND,0V),就能 实现数字或门电路。

60 例: 理想二极管电路中 vi=V m sinωt V,求输出波形vo。
Vm V1 V2 Vi>V1时,D1导通、D2截止,Vo=V1。 Vi<V2时,D2导通、D1截止,Vo=V2。 V2<Vi<V1时,D1、D2均截止,Vo=Vi。

61 例:画出理想二极管电路的传输特性(Vo~VI)。
解:① VI<25V,D1、D2均截止。 VO=25V ② VI >25V ,D1导通,D2截止。 VI 25V 75V 100V 50V 125V VO 150V ③VI>137.5V,D1、D2均导通。 VO=100V 137.5

62 例:画出理想二极管电路的传输特性(Vo~VI)。
VI VO - 5V +5V +2.5V -2.5V 当VI<0时 D1导通 D2截止 当VI>0时 D1截止 D2导通

63 试求二极管的静态工作电流IDQ,以及二极管的直流导通电阻R直。 求在室温300K时,D的小信号交流等效电阻r交 。
例:已知二极管D的正向导通管压降VD=0.6V,C为隔直电容,vi(t)为小信号交流信号源。 试求二极管的静态工作电流IDQ,以及二极管的直流导通电阻R直。 求在室温300K时,D的小信号交流等效电阻r交 。 解: C R 1K E 1.5V + VD vi(t)

64 解: 例:二极管限幅电路:已知电路的输入波形为 v i ,二极管的VD 为0.6伏,试画出其输出波形。
Vi> 3.6V时,二极管导通,vo=3.6V。 Vi< 3.6V时,二极管截止, vo=Vi。

65 低电压稳压电路 稳压电源是电子电路中常见的组成部分。利用二极管 的正向压降特性,可以得到一种稳压性能较好的低电 压的稳压电路。

66 例 在低电压稳压电路中,直流电源电压vI的正常值为10V, R=10k,若vI变化1V时,问相应的硅二极管电压(输 出电压)的变动如何。
由此可得二极管Q点上的电流为: (2)在此Q点上,计算二极管的微变电阻内为

67 解答 (3) 当vI有1V的波动,它可视为一 峰-峰值为2V的交流信号,该信号 作用于由R和rD组成的分压器上。 显然,相应的二极管的信号电压, 可按分压比来计算,即

68 二极管整流 求整流电路的输出波形。 解: 正半周: D1、D3 导通 D2、D4 截止 负半周 D2、D4导通 D1、D3截止

69 §3-5特殊二极管 除普通二极管外,还有若干种特殊二极管,如齐纳 二极管、变容二极管、光电二极管、发光二极管和 激光二极管等

70 齐纳二极管 齐纳二极管又称稳压管,是一种用特殊工艺制造的面 结型硅半导体二极管。
管子的杂质浓度比较大,空间电荷区内的电荷密度大, 区域很窄,容易形成强电场。当反向电压加到某一定 值时,反向电流急增,产生反向击穿。 Vz表示反向击穿电压,即稳压管的稳定电压。电流增量Iz很大,只引起很小的电压变化Vz。曲线愈陡,动态电阻愈小,稳压管的稳压性能愈好。

71 稳压管的稳压过程。 IR IZ Io RL Io IR Vo IZ IR Vo

72 变容二极管 二极管结电容的大小除了与本身结构和工艺有关外, 还与外加电压有关。结电容随反向电压的增加而减小, 这种效应显著的二极管称为变容二极管。 不同型号的管子,其电容最大值可能是5-300PF。最 大电容与最小电容之比约为5:1。变容二极管在高频 技术中应用较多。

73 肖特基二极管 当金属与N型半导体接触时,在其交界 面处会形成势垒区,利用该势垒制作的二极管, 称为肖特基二极管或表面势垒二极管。它的原 理结构图和对应的电路符号如图所示。

74 肖特基二极管结构与符号 (a)结构示意图; (b)电路符号

75 光电二极管 光电二极管的结构与PN结二极管类似,但在PN结处, 通过管壳上的一个玻璃窗口能接收外部的光照。
器件的PN结在反向偏置状态下运行,反向电流随光 照强度的增加而上升。反向电流与照度成正比,灵敏 度的典型值为0.1A/lx数量级。 光电二极管可用来作为光的测量,是将光信号转换为 电信号的常用器件。

76 发光二极管 发光二极管通常用元素周期表中III、V族元 素的化合物,如砷化镓、磷化镓等所制成。
通电流时将发出光来,这是由于电子与空穴 直接复合而放出能量的结果。光谱范围是比 较窄的,其波长由所使用的基本材料而定。

77 光电器件应用 发光二极管的一种重要用途是将电信号变为光信号, 通过光缆传输,然后再用光电二极管接收,再现电信 号。

78 激光二极管 激光二极管的物理结构是在发光二极管的结间安置一 层具有光活性的半导体,其端面经过抛光后具有部分 反射功能,因而形成一光谐振腔。
在正向偏置的情况下,LED结发射出光,并与光谐振 腔相互作用,从而进一步激励,从结上发射出单波长 的光。

79 作业 3.2.1、3.4.1、3.4.3、3.4.7、3.4.8、3.4.9 预习 BJT晶体管

80 教程


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