多座工廠位於日本311主震區 日半導體設備大廠出貨 及下游晶圓廠客戶擴產進度 將受影響

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1 多座工廠位於日本311主震區 日半導體設備大廠出貨 及下游晶圓廠客戶擴產進度 將受影響
多座工廠位於日本311主震區 日半導體設備大廠出貨 及下游晶圓廠客戶擴產進度 將受影響 日本半導體設備廠商2010會計年度(至2011年3月底止)總銷售額將達1.24兆日圓，接近150億美元，相當於2010年全球半導體設備銷售額395億美元的近4成，對半導體產業影響力極大。 2010年全球10大半導體設備廠商中，東京威力科創(TEL)為前3大廠之一，另外，尼康(Nikon)及佳能(Canon)雖不在前10大廠商之內，但2009年時Nikon仍是全球第4大的半導體設備廠商，該公司預期2011年銷售額可望有較大幅度成長。 以半導體設備中極為關鍵的曝光機台而言，Nikon及Canon兩家廠商佔2010年全球半導體曝光設備佔有率的44%，此次311震災兩公司均有設備工廠位於災區，有部分設備或廠房受損。 多家重要日本半導體設備廠商在此次311地震中有所損傷，對全球半導體產業的影響，評估為將影響主要半導體晶圓廠的擴產或新建生產線進度。 東京威力科創部分，則於3月17日表示，若干工廠可於2至4週內恢復，部分設備的生產將轉交其他地方的生產線，相對影響可以局限在一定程度內。 Research 資深分析師 黃銘章 Research 助理分析師 溫宗宏 2011/3/18

2 Nikon 2009~2011年會計年度 半導體曝光機台出貨量及預測
單位：台 77 49 78 尼康(Nikon)是全世界半導體用光學微影設備的第2大供應廠商，近年來市佔率約在35%~40%，僅次於ASML。 2011日本會計年度Nikon的半導體用光學微影機台(Lithography equipment含stepper及scanner或日文中的曝光機台)預計銷售台數可達77台，恢復2009年水準。 註：Nikon會計年度(FY)計算自當年4月1日至翌年3月31日止。2011年預測係為2010年4月1日至2011年3月31日。 資料來源：DIGITIMES，2011/3

3 Canon 2009~2011年會計年度 半導體曝光機台出貨量及預測
單位：台 Canon半導體曝光機台近年來出貨逐年增加。 根據Gartner統計，在2008年Canon半導體用曝光機台全球出貨量佔有率達28%，2009年表現不佳，佔有率掉到9%。 2011年Canon仍預期其半導體曝光機台出貨量有顯著的成長。 註：Canon會計年度計算等同西元年。 資料來源：DIGITIMES，2011/3

4 Nikon和Canon 2010年會計年度 半導體曝光機台出貨量及佔全球比重
單位：台；百分比 FY’10 全球出 貨量共112台 分析2010年各廠商半導體用曝光機台出貨量(新機)及佔有率，可以發現荷蘭廠商ASML所佔比重仍達5成以上最高。 但是日本廠商在半導體用曝光機台所佔比重仍達到44%的高比例。 本次311地震對於日本曝光機台廠商的生產設備或廠房有部分影響。 註：統一以2009年4月1日至2010年3月31日期間結算出貨量與佔全球出貨量比重。 資料來源：DIGITIMES，2011/3

5 半導體前段設備廠商以Nikon 受震災影響較深
東京威力科創 岩手東北分公司 (熱處理成膜裝置) Canon 櫪木宇都宮廠區 (半導體設備) Nikon 宮城Nikon (半導體曝光機台) Nikon 櫪木大田原廠區 (半導體曝光機台) Canon -茨城阿見廠區 (半導體曝光機台零件) -Canon Optron (半導體曝光機台用 光學結晶) Canon半導體設備生產基地主要在神奈川縣，受震災影響有限，部分位於茨城縣與櫪木縣停工廠區則尚未有復工時程。 但Canon半導體設備研發及生產基地之一的宇都宮事業所，據Canon表示受損情況較為嚴重。 東京威力科創(Tokyo Electron；TEL)是日本第1大半導體生產設備廠商，在全球亦僅次於應用材料。 東京威力科創東北公司、東京威力科創技術研究所(宮城縣)，和東京威力科創AT宮城公司於震後均停止運轉，以利安全檢測。其中，東京威力科創宮城廠區原本預計於2011年4月開始營運的。 東京威力科創東北公司，和東京威力科創AT宮城公司分別生產熱處理成膜設備及蝕刻設備。但3月17日最新的公司說法是2週左右東北公司可恢復，而蝕刻設備則會多加利用過去以來的山梨縣生產線。 Nikon半導體製造設備生產地主要分布在櫪木和宮城縣，為本次受震災影響較深的半導體製造設備供應商。 資料來源：DIGITIMES，2011/3

6 CANON宇都宮事業所受損情況較嚴重 Canon 櫪木宇都宮廠區 (半導體設備) ● ● Canon -茨城阿見廠區 (半導體曝光機台零件)
-Canon Optron (半導體曝光機台用 光學結晶) Canon半導體設備生產基地主要在神奈川縣，受震災影響有限，部分位於茨城縣與櫪木縣停工廠區則尚未有復工時程。 但Canon半導體設備研發及生產據點之一的宇都宮事業所，據Canon表示受損情況較為嚴重。 資料來源：DIGITIMES整理，2011/3

7 東京威力科創東北公司預計2週後可恢復 東京威力科創 岩手東北分公司 (熱處理成膜裝置) ● 資料來源：DIGITIMES整理，2011/3
東京威力科創 岩手東北分公司 (熱處理成膜裝置) ● 東京威力科創(Tokyo Electron；TEL)是日本第1大半導體生產設備廠商，在全球亦僅次於應用材料。 東京威力科創東北公司、東京威力科創技術研究所(宮城縣)，和東京威力科創AT宮城公司於震後均停止運轉，以利安全檢測。其中，東京威力科創宮城廠區原本預計於2011年4月開始營運的。 東京威力科創東北公司，和東京威力科創AT宮城公司分別生產熱處理成膜設備及蝕刻設備。但3月17日最新的公司說法是2週左右東北公司可恢復，而蝕刻設備則會多加利用過去以來的山梨縣生產線。 資料來源：DIGITIMES整理，2011/3

8 Nikon有2座工廠位於主要震區 受影響較大
● Nikon 宮城Nikon (半導體曝光機台) ● Nikon半導體製造設備生產地主要分布在櫪木和宮城縣。 相對而言，Nikon可能是本次受震災影響較深的半導體製造設備供應商，若有較大受損情形，將影響其下游客戶的生產線擴產進度。 Nikon 櫪木大田原廠區 (半導體曝光機台) 資料來源：DIGITIMES整理，2011/3