第一章 半导体中的电子状态 本章主要讨论: 定性介绍能带理论,利用Schrodinger方程

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第一章 半导体中的电子状态 本章主要讨论: 定性介绍能带理论,利用Schrodinger方程 和Kroning-Penney模型近似推导关于半导体 中电子的状态和能带特点。 阐述本征半导体的导电机构,引入了空穴的概念。 最后简单介绍几种半导体材料的能带结构。 重点和难点: 半导体硅、锗的晶体结构(金刚石结构)及其特点 半导体的闪锌矿结构及其特点 本征半导体及其导电结构、空穴

§1.1 半导体的晶格结构和结合性质 晶体结构 化学键 Si,Ge 金刚石型 共价键 GaAs 闪锌矿型 混合键 (共价键 + 离子键) 晶体结构 化学键 Si,Ge 金刚石型 共价键 GaAs 闪锌矿型 混合键 (共价键 + 离子键) 能带结构决定材料的性质

1.1.1 金刚石型结构和共价键 现代电子学中,重要的半导体材料:硅 和 锗,它们的最外层电子(价电子)都是四个,它们组合成晶体靠共价键结合。 Ge Si

硅和锗的共价键结构 共价键共 用电子对 +4 +4表示除去价电子后的原子 形成共价键后,每个原子的最外层电子是八个,构成稳定结构。

+4 共价键有很强的结合力,使原子规则排列,形成晶体。 共价键中的两个电子被紧紧束缚在共价键中,称为束缚电子,常温下束缚电子很难脱离共价键成为自由电子,因此本征半导体中的自由电子很少,所以本征半导体的导电能力很弱。

在硅和锗晶体中,原子按四角形系统组成晶体点阵,每个原子都处在正四面体的中心,而四个其它原子位于四面体的顶点,每个原子与其相临的原子之间形成共价键,共用一对价电子。 硅和锗的晶体结构

可看成是两个面心立方晶胞沿立方体的空间对角线互相位移了1/4的空间对角线长度套构而成的 将许多正四面体累积起来就得到金刚石结构 金刚石型结构的晶胞 可看成是两个面心立方晶胞沿立方体的空间对角线互相位移了1/4的空间对角线长度套构而成的

硅、锗基本物理参数 晶格常数 原子密度 共价半径 硅:5.43089埃 锗:5.65754nm埃 硅:5.00×1022/cm-3 数量级

1.1.2 闪锌矿型结构和混合键 材料: Ⅲ-Ⅴ族化合物半导体材料以及部分 Ⅱ-Ⅵ族化合物 如 GaAs, InP, AlAs ····· 化学键:共价键具有一定的极性(两类原子的 电负性不同) 共价键+离子键 晶胞特点:两类原子各自组成面心立方晶格, 沿空间对角线方向彼此位移1/4空 间对角线长度套构而成

闪锌矿型结构的晶胞

1.1.3纤锌矿型结构 材料:ZnS, ZnSe,CdS 相同点: 以正四面体结构为基础构成 区别: 与闪锌矿型结构相比 具有六方对称性,而非立方对称性 共价键的离子性更强

纤锌矿型结构晶胞图 属于纤锌矿型结构的晶体有:BeO、ZnO、AIN等

1.2 半导体中的电子状态和能带 1.2.1 原子的能级和晶体的能带 重点: 电子的共有化运动 原子能级分裂以及能带的形成 导带、价带与禁带

一、电子的共有化运动 孤立原子:1s, 2s, 2p,3s, 3p, · · · 等电子壳层 晶体:不同原子的内外各电子壳层出现交叠,电子可由一个原子转移到相邻的原子,因此,电子可以在整个晶体中运动,称为电子的共有化运动

二、原子能级分裂以及能带的形成

内层原子受到的束缚强,共有化运动弱, 能级分裂小,能带窄;外层原子受束缚弱, 分裂的每一个能带称为允带 允带之间无能级称为禁带 内层原子受到的束缚强,共有化运动弱, 能级分裂小,能带窄;外层原子受束缚弱, 共有化运动强,能级分裂明显,能带宽。

以金刚石结构单晶硅材料为例 能级sp3杂化后,硅原子最外层有四个能量状态;若晶体中有N个原子,能级分裂后形成两个能带,各包含2N个状态。

2学时

半导体(硅、锗)能带的特点: 存在轨道杂化,失去能级与能带的对应关系。杂化后能带重新分开为上能带和下能带,上能带称为导带,下能带称为价带 低温下,价带填满电子,导带全空,升温或光照下价带中的一部分电子跃迁到导带,使晶体呈现弱导电性。 导带与价带间的能隙(Energy gap)称为禁带(forbidden band).禁带宽度取决于晶体种类、晶体结构及温度。 当原子数很大时,导带、价带内能级密度很大,可以认为能级准连续

能带产生的原因: 定性理论(物理概念):晶体中原子之间的相互作用(电子共有化运动),使能级分裂形成能带。 定量理论(量子力学计算):电子在周期场中运动,其能量不连续形成能带。

能带(energy band)包括允带和禁带。 允带(allowed band):允许电子能量存 在的能量范围。 禁带(forbidden band):不允许电子存 允带又分为空带、满带、导带、价带。 空带(empty band):不被电子占据的允带。 满带(filled band):允带中的能量状态(能 级)均被电子占据。 导带(conduction band):电子未占满的允带 (有部分电子。) 价带(valence band):被价电子占据的允带 (低温下通常被价电子占满)。

共价键理论 共价键理论主要有三点: 晶体的化学键是共价键,如 Si,Ge。 共价键上的电子处于束缚态,不能参与导电。 处于束缚态的价电子从外界得到能量, 有可能挣脱束缚成为自由电子,参与导电。

能带理论与共价键理论的对应关系 能带理论 共价键理论 价带中电子 共价键上的电子 导带中电子 挣脱共价键的电子 能带理论 共价键理论 价带中电子 共价键上的电子 导带中电子 挣脱共价键的电子 禁带宽度 脱离共价键所需的最小能量 定量理论 定性理论

1.2.2 半导体中电子的状态和能带 重点 E(k)~k关系 波函数:描述微观粒子(如电子)的运动 薛定谔方程:揭示粒子运动的基本规律

(1)自由电子的E与k关系 一维恒定势场的自由电子,遵守薛定谔方程: V=0时, 方程解为: 其中,Ψ(x)为自由电子波函数,k为波矢。上式代表一个沿x方向传播的平面波。 由粒子性和德布罗意关系p=hk, E=hv,可得

自由电子的E与k成抛物线关系

(2)晶体中电子的E与k关系 1. 晶体中薛定谔方程及其解的形式 晶体中的势场是一个与晶格同周期的周期性函数 布洛赫定理指出此方程具有下列形式的解: Uk(x)随x作周期性变化

自由电子: 即自由电子在空间作等几率运动,自由运动 而晶体中电子 说明晶体中电子的出现的几率是周期性变化的,不同的k说明了不同的共有化运动。

2. 布里渊区与能带 求解 可得到晶体中电子的E(k)-k关系

虚线:自由电子的E(k)-k关系

布里渊区特征: 形成一系列相间的允带和禁带,其中 第一布里渊区: -1/2a < k < 1/2a (1)k=n/2a(n=±1,±2···)时,能量不连续, 形成一系列相间的允带和禁带,其中 第一布里渊区: -1/2a < k < 1/2a 第二布里渊区: -1/a < k < -1/2a,(2)E(k)=E(k+n/a), E(k)是k的周期性函数, 周期为k; (3)禁带出现在k=n/2a处; (4)每一个布里渊区对应一个能带

E(k)-k的对应意义: 1)每一个k对应一个能量状态(能级) 2)每个能带有N个能级,而每个能级可以容纳自旋方向相反的两个电子,因此,每个能带可以容纳2N个电子。

1.2.3 导体、半导体、绝缘体的能带 能带理论认为:电子能够导电是因为在外力作用下电子的能量状态发生了变化 1.2.3 导体、半导体、绝缘体的能带 能带理论认为:电子能够导电是因为在外力作用下电子的能量状态发生了变化 满带:存在外电场E时,满带中所有电子均以dk/dt=-qE/h逆电场方向运动 ,但A和a点状态完全相同, 满带电子不参与导电。

半满带:在外电场作用下,电子吸收能量跃迁到未被电子占据的能级上,能量改变,能参与导电

价带电子导电等效为带正电的准粒子,即空穴导电 半导体的能带 空穴:带正电荷的准粒子 价带电子导电等效为带正电的准粒子,即空穴导电

Eg(禁带宽度): 脱离共价键所需的最低能量 Ev(价带顶):是价带电子的最高能量 Ec(导带底):导带电子的最低能量 本征激发:温度一定时,价带电子激发成为导带电子的过程 ∴ Eg=EC-EV

绝缘体、半导体和导体能带示意图 导带 价带 禁带 半满带 绝缘体 半导体 导体

金属中,由于组成金属的原子中的价电子占据的能带是部分占满的,所以金属是良好的导电体 半导体和绝缘体的能带类似,即下面是已被价电子占满的满带(其下面还有为内层电子占满的若干满带),亦称价带,中间为禁带,上面是空带。 半导体中导带的电子和价带的空穴参与导电,这是与金属导体的最大差别。 绝缘体的禁带宽度很大,激发电子需要很大的能量,在通常温度下,能激发到导带中的电子很少,所以导电性很差。

绝缘体、半导体和导体区别 绝缘体:禁带宽度很大,激发电子需要很大 能量,通常温度下,很少电子能够被 激发到导带 半导体:电子、空穴参与导电 两种载流子使半导体表现出许多奇异 的特性,用来制造形形色色的器件 导体:电子参与导电

1.电子能带结构由它们所在的势场决定,与组成晶体的原子结构与晶体结构( ),与晶体中原子数目的多少( )。 A.有关 B.无关 2.处于低能级的内壳层电子共有化运动( ) ,所以能级分裂( ) ,能带较( );处于高能级的外壳层电子共有化运动( ) ,能级分裂( ) ,因而能带较宽。 弱,强,大,小,窄,宽

1.3 半导体中电子的运动 有效质量 1.3.1 半导体中E(k)与k的关系 半导体中,起作用的是接近于能带底部或能带顶部的电子。 1.3 半导体中电子的运动 有效质量 1.3.1 半导体中E(k)与k的关系 半导体中,起作用的是接近于能带底部或能带顶部的电子。 将E(k)在k=0附近按泰勒级数展开 K值很小,所以(dE/dk)k=0=0 EC:导带极小值

对确定的半导体,(d2E/dk2)k=0是定值,令 得到 mn*: 能带底电子的有效质量 E(k)>Ec mn*>0 与自由电子的E(k)-k关系相似

同理,设价带极大值EV 令 可得 mn*: 价带顶电子有效质量 而价带顶附近 E(k)<EV , mn*<0

mn*:可利用回旋共振实验测出 ∴ 导带底和价带顶附近E(k)与k的关系能够确定

1.3.2 半导体中电子的平均速度 电子的运动可以看成波包的运动,波包的群速即电子运动的平均速度。 讨论: 导带底: mn*>0,K为“+”时,V也为正值 价带顶: mn*<0, K为“+”时,V为负值

1.3.3 半导体中电子的加速度 在外力作用下,半导体中电子的加速度为:

1.3.4 有效质量的意义 F为外力 F=mn*a 电子所受真实合力为:外力+原子核势场和其它电子势场力 而根据

有效质量的特点 (1)有效质量的正负与位置有关。 能带顶部附近,有效质量为负;能带顶部附近,有效质量为正。 (2)有效质量的大小由共有化运动的强弱有关。 能带越窄,二次微商越小,有效质量越大(内层电子的有效质量大);能带越宽,二次微商越大;有效质量越小(外层电子的有效质量小)。

(3)有效质量与惯性质量不同,存在类比关系 (4)有效质量概括了半导体内部势场的作用, 使得在解决半导体中电子在外力作用下的 运动规律时,可以不涉及到半导体内部势 场的作用。 (5)可以直接由实验测定,因而可以很方便地 解决电子的运动规律.

1.E~k曲线表示了两种可能导带结构,说明其中 哪一种对应电子有效质量较大。为什么?

2.电子的有效质量变为∞的物理意义是什么? 从能量的角度讨论. 电子能量的变化 从上式可以看出,当电子从外场力获得的能量又都输送给了晶格时, 电子的有效质量变为∞. 此时电子的加速度 即电子的平均速度是一常量. 或者说, 此时外场力与晶格作用力大小相等, 方向相反.

应用题 已知一维晶体的电子能带可写为 式中,a为晶格常数。试求: (1)能带的宽度; (2)电子的波矢k状态时的速度; (3)能带底部和顶部电子的有效质量。

解答:由E(k)关系得: 令 ,得: 所以 (1) (2)

当 时,代入式(2)得 对应E(k)的极小值。 当 时,代入式(2)得 对应E(k)极大值

根据上述结果,求得Emin和Emax即可求得能带宽度。 因为 将 代入得

将 代入得 故:能带宽度 (2)

(3)

1.4 半导体的导电机理 导电条件:有外加电压、有载流子 载流子:晶体中荷载电流(或传导电流)的粒子 载流子产生途径:升温、光照等等 导电机构:电子导电、空穴导电 本征(intrinsic)半导体:不含任何杂质的半导体

空穴的概念 在牛顿第二定律(a=F/mn*)中要求有效质量为 正值,但价带顶电子的有效质量为负值。为了 解决这一问题,引入空穴的概念。 价带中不被电子占据的空状态 价带顶附近空穴有效质量 >0 数值上与该处的电子有效质量相同,即 mp*=-mn* ,空穴带电荷+q(共价键上少 一个电子,破坏局部电中性,显正电)。 空穴的能量坐标与电子的相反,分布服从能 量最小原理。

载流子、自由电子和空穴 在绝对0度(T=0K)和没有外界激发时,价电子完全被共价键束缚着,本征半导体中没有可以运动的带电粒子(即载流子),它的导电能力为 0,相当于绝缘体。 在常温下,由于热激发,使一些价电子获得足够的能量而脱离共价键的束缚,成为自由电子,同时共价键上留下一个空位,称为空穴。

绝对温度为零时 共价键共 用电子对 +4 +4表示除去价电子后的原子

热激发后 +4 空穴 自由电子 束缚电子

两种情况下的能带图

如何理解空穴导电? 设价带有电子跃迁到导带。设电子电流密度为J,则 J=价带(k状态空出)电子总电流 设想以一个电子填充到空的k状态, k状态电子电流=(-q)v(k) v(k): k状态电子的运动速度

填入这个电子后,价带又被填满,总电流应为零,即 J+(-q)v(k)=0 J=(+q)v(k) 这就是说,当价带k状态空出时,价带电子的总电流,就如同一个正电荷的粒子以k状态电子速度v(k)运动时所产生的电流。

引入空穴的意义 (1)空穴具有正的有效质量 (2)空穴具有正电荷+q,价带导电I=(+q)v(ke) (3)空穴的速度与导带电子方向相反。 把价带中大量电子对电流的贡献用少量的空穴表达出来。 半导体中有电子和空穴两种载流子,而金属中只有电子一种载流子 (1)空穴具有正的有效质量 (2)空穴具有正电荷+q,价带导电I=(+q)v(ke) (3)空穴的速度与导带电子方向相反。 (4) 价带中缺少一个电子,就失 去了这个电子能量Ee(ke),相当于在全满价带 中加入一个空穴,其能量为Eh(kh),使价带减 少Ee(ke)的能量 (5) 价带中缺少一个电子,空出ke状态, 相当于在价带中加入一个空穴设其状态为kh表 示,加入一个kh相当于加入一个-ke状态到价带。

1 在一个电子能带图中,较高能量状态中的电子具有较大的能量;而对于空穴的能量是由上到下( )。 A.递减; B.递增;C.不变 2 与半导体相比较,绝缘体的价带电子激发到导带所需的能量( ) A. 比半导体的大 B. 比半导体的小 C. 与半导体的相等

1.5 回旋共振 1.5.1 k空间等能面 实验目的:测量电子的有效质量,以便采用理论与实验相结合的方法推出半导体的能带结构 k空间等能面为k空间能量相同的各k值点所构成的曲面

设k空间的三个基矢为 ,则波矢表示为 简单情况下

当E(k)为确定值时,(kx,ky,kz)构成一个封闭的曲面 是一个半径为 的球面。在这个面上能值相等

更一般的情况下 1)对于各向异性的晶体,E(k)与k的关系沿不同k 方向不一定相同,不同k方向,电子有效质量不同 2)能带极值不一定位于k=0处 设极值点出现在 处, 令 分别表示沿 三个方向的导带底的电子有效质量(对空穴也一样)

上式代表的是一个椭球等能面,等能面上的一个波矢k代表一个电子状态,对应一个能量E(k) 其中

1.5.2 回旋共振 1.晶体中电子在磁场作用下运动 半导体样品置于均匀恒定磁场 运动轨迹为螺旋线,圆周半径为r,回旋频率为

2.回旋共振实验 实验目的 测量电子的有效质量,以便采用理论与实验相结合的方法推出半导体的能带结构 实验原理 固定交变电磁场的频率,改变磁感应强度以观测吸收现象。磁感应强度约为零点几T

等能面的形状与有效质量密切相关 球形等能面 有效质量各向同性,即只有一个有效质量 椭球等能面 有效质量各向异性, 在不同的波矢方向对应不同的有效质量

等能面为球面 半导体样品置于均匀恒定磁场中, 回旋频率为 以电磁波通过半导体样品,交变电场频率等于回旋频率时,发生共振吸收 测出频率和电磁感应强度便可得到mn*

等能面为椭球(有效质量各向异性) 电子受力 电子运动方程

电子做周期性运动,取试解 代入前式得

要使 有异于零的解, 系数行列式必须为零,即: 回旋频率为 式中

为能观测出明显的共振吸收峰,就要求样品纯度要高,而且实验一般在低温下进行,交变电磁场的频率在微波甚至在红外光的范围。实验中常是固定交变电磁场的频率,改变磁感应强度以观测吸收现象。磁感应强度约为零点几T。 当交变电磁场频率ω与ωc相同时, 就得到共振吸收

1.6 Si导带结构的回旋共振结果 1)若B沿[111]方向,只有一个吸收峰 2)若B沿[110]方向,有2个吸收峰 3)若B沿[100]方向,有2个吸收峰 4)若B沿任意方向,有3吸收峰

根据以上结果,可以假设: 1)导带最小值不在k空间原点,在[100]方向上,即是沿[100]方向的旋转椭球面 2)根据硅晶体立方对称性的要求, 也必有同样的能量在 方向上 3)如图l-22所示,共有六个旋转椭球等 能面,电子主要分布在这些极值附近

设 是第S个极值所对应的波矢,S=1、2、…、6,极值处能级为Ec,则

设k3轴沿[001]方向,k1,k2轴位于(001)面内,互相垂直,这时沿k1,k2轴有效质量相同 设 , ,则等能量方程为 以沿[001]方向的旋转椭球为例: 设k3轴沿[001]方向,k1,k2轴位于(001)面内,互相垂直,这时沿k1,k2轴有效质量相同 设 , ,则等能量方程为

选取k1使磁感应强度B位于k1轴和k3轴所组成的平面内,且同k3轴交 角,B的方向余弦 分别为:

由上讨论可得如下结果: (1)磁感应沿[111]方向,则与上述六个<100>方向的夹角均给出 ,因而 (2)磁感应沿[110]方向,这时磁感应与 的夹角 , 与 的夹角

(3)磁感应沿[100]方向,与 方向 的夹角 ,与 方向的夹角 (4)磁感应沿任意方向时,磁感应与 有三个值,所以可以得到三个吸收峰

Si、Ge、GaAs的能带结构 1.12eV 1.43eV 0.67eV

硅和锗的价带结构的回旋共振结果: 由四个能带所组成,在价带顶附近有三个能带,其能带特点为: 价带顶位于k=0处 价带是简并的,价带顶附近,三度简并, 如计入自旋能带6度简并 由于自旋-轨道耦合作用,能带分裂两组

GaAs具有多能谷 硅、锗、砷化镓禁带宽度是随温度变化的,具有负温度系数 硅:α=4.73×10-4eV/K β=636K

两个基本概念 直接带隙半导体材料:导带最小值(导带底)和满带最大值相应于相同的波矢k0 间接带隙半导体材料:导带最小值(导带底)和满带最大值在k空间中不同位置 Si, Ge: 间接带隙半导体 GaAs:直接带隙半导体

1.10 宽禁带半导体材料 Eg≥2.3eV 宽禁带半导体材料 常见宽禁带半导体材料: SiC, AlN, GaN,金刚石等 性质:禁带宽、热导率高、介电常数低、电子漂移饱和速度高 用途:制作高温、高频、高功率、抗辐照电子器件。还可制作蓝光、绿光、紫外光的发光器件和光探测器件

Ge, Si, GaAs的晶体结构分别是什么? 并描 述其特点。 2.描述晶体中电子的共有化运动。 晶体形成能带的原因是什么? 3.半导体的导电机构是什么? 4.什么是本征激发? 5.什么是禁带宽度? 6.描述空穴的概念。 7.有效质量的意义是什么? 8.描述直接能隙半导体和间接能隙半导体。 Ge,Si和GaAs分别属于那种半导体? 6学时