VTS 软板薄膜溅镀轮设备

VTS’s 软板薄膜溅镀滚轮系统设备可依据客户个别规格需求转换设计为工业制品 . 介 绍 VTS’s 软板薄膜溅镀滚轮系统设备可依据客户个别规格需求转换设计为工业制品 . 呈现在这份手册中这套系统, 让使用者能使用现行科技组件研发程序, 进行生产. VTS’s多层高真空网状/滚轮系统设备设计为镀 Polyimide Film, Mylar, foil 和其它薄膜塑料或金属材料可以储存在连续卷状滚轮型态. 典型的制程在高真空枪膛含括溅镀源头, 电子光束枪, 热源, 基板温度, 离子束源与电浆制程条.

AWC-550 溅镀滚轮设备 技 术 使用 AWC-550, 金属将被储存在一端薄膜, 以氩气与活跃气体导入形成高比率离子光束制作多层膜. 产 品 讯 息 技 术 使用 AWC-550, 金属将被储存在一端薄膜, 以氩气与活跃气体导入形成高比率离子光束制作多层膜. 设 备 技 术 多层-内膛-系统由线圈, 预处理, 电镀, 中间即筒 在电镀过程中, 有一个电镀圆桶做为冷却薄膜用 电镀圆桶有冷却/加热配备 即筒设备为涡轮组成可缩短即筒下压 用离子光束预先处理 多于4组合乎标准DC 磁电管做为金属渐镀过程 使用 拥有3个驱动马达的电子控制卷线系统 技 术 资 料 基 板 材 料 塑 胶 薄 膜 (PET, PI, etc.) 滚轮尺寸 最大. 380mm 宽度 up to 550 mm 厚 度 25㎛ to 200㎛ 薄膜速度 0.1 to 5 M/min

线 性 离 子 光 束 VTS 线性离子光束特性 / 优点 没有极板网细丝 具生产力, 低需求维护, 无损耗, 低成本 产 品 讯 息 VTS 线性离子光束特性 / 优点 没有极板网细丝 具生产力, 低需求维护, 无损耗, 低成本 气体相容反应 - I.e.100% 低温氧气 磁电管运作压力 (0.1-5mTorr) 尺寸大小可自订 无需多层电力来源 – 容易整合完成 高能量 高电流密度 光束一致稳定性 Current Density Distribution Profile

DC磁电管溅镀来源 产 品 讯 息 VTS线性溅度来园特征 / 优点 具生产力, 低需求维护, 无损耗, 低成本 低溫 磁电管运作压力 (0.8- 5mTorr) 尺寸大小可自订 高电力兼容性 高储存率 电镀一致稳定性 ㎛/min Power vs Deposition Rate Å Position vs Deposition Profile

PI film 电镀 成形 VTS 的 FCCL 技术数据 FCCL 生 产 制 程 Web coating Fine Pitch 联系层 Polyimide Film Copper PI film 联系层 储存 预处理 电镀 成形 Web coating FCCL 生 产 制 程

以ATEC 线性离子光束制作Polyimide薄膜表面修饰 VTS 的 FCCL 技术数据 以ATEC 线性离子光束制作Polyimide薄膜表面修饰 使用不同剂量的离子光束照射 polyimide 干燥角度分析图 使用不同剂量的离子光束照射 polyimide 表面能量分析图

以ATEC 线性离子光束制作Polyimide薄膜表面修饰 VTS 的 FCCL 技术数据 以ATEC 线性离子光束制作Polyimide薄膜表面修饰 Low Current Density High Current Density 使用离子光束照射 polyimide以不同离子流量 做干燥角度分析图 使用不同的气体经由离子光束照射分析黏胶强度

VTS 的 FCCL 技术数据 使用离子光束修饰 polyimide薄膜的 XPS 资料 PMDAODA 的重复聚合单元概要图标 結合能 (eV) 经高反回旋后, 收集 PMDA-ODA polyimide对O 1s, N 1s, and C 1s的XPS频谱 結合能 (eV) 经线性离子光束照射后,收集 PMDA-ODA polyimide对O 1s, N 1s, and C 1s的XPS频谱

使用离子光束修饰 polyimide薄膜的 SAM 资料 VTS 的 FCCL 技术数据 使用离子光束修饰 polyimide薄膜的 SAM 资料 By Gas A Raw Film By Gas A + C By Gas C

VTS 的 FCCL 技术数据 离子光源对 Polyimide 薄膜的表面修饰 不同剂量的离子照射的剥璃强度 不同剂量的离子照射的剥璃强度

VTS 的 FCCL 技术数据 纠 正 测 试 (150℃, 168h) 铜 的 厚 度 & 剥 离 强 度 不同剂量的离子照射的剥璃强度 铜 的 厚 度 & 剥 离 强 度 ㎏f/㎝ ㎛ 2 4 6 8 10 12 14 16 18 20 0.0 0.2 0.4 0.6 0.8 1.0 1.2 Peel Strength ( ) Cu Thickness ( ) 不同剂量的离子照射的剥璃强度

VTS 的 FCCL 技术数据 化 学 测 试 测 试 条 件 : Mean : 0.80 kgf/cm 样品宽度 : 3 ㎜ 样品位置 : MD C PI 厚度 : 38 ㎛ 铜的厚度 : 9 ㎛ 剥离模式 : 垂直 (90˚) 剥离速度 : 50 ㎜ / min Mean : 0.80 kgf/cm 원자재 표면 常 温 状 况 Mean : 0. 78 kgf/cm Mean : 0.79 kgf/cm HCL 测 试 By Gas C By Gas A + C KOH 测 试

结 论 VTS 的网状 / 滚轮系统 : 发展中科技目前进步水平 VTS 的线性离子光束 : 高流量密度 光束一致稳定 尺寸大小可自订 结 论 VTS 的网状 / 滚轮系统 : 发展中科技目前进步水平 VTS 的线性离子光束 : 高流量密度 光束一致稳定 尺寸大小可自订 VTS 的线性 DC 磁电管溅镀源 : 高储存率 电镀一致稳定性 经由气体探离子做 Pl 表面修饰 : 高表面能量 快速表面修饰 高剥离強度 高流量密度离子光源 : 高表面能量 纠正测试 : 0.32 kgf/㎝ 化学测试 : 0.78 kgf/㎝ 원자재 표면 By Gas A By Gas A + C By Gas C