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「微電薄膜之生長及分析實驗」單元 第一單元:真空技術與實務操作
奈米科技教學改進計畫 數位化網路自我學習練習題 「微電薄膜之生長及分析實驗」單元 第一單元:真空技術與實務操作 逢甲大學材料科學與工程學系編製
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( ) 何謂真空的定義? (A) ㄧ容器內的壓力低於一大氣壓(B)ㄧ容器中沒有任何的氣體(C) ㄧ容器中氣體密度小於2.5×10-19 mol/cm3.
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( A ) 何謂真空的定義? (A) ㄧ容器內的壓力低於一大氣壓(B)ㄧ容器中沒有任何的氣體(C) ㄧ容器中氣體密度小於2.5×10-19 mol/cm3.
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( ) 真空可以真空度來區分為(何者為非):(A) 粗略真空(1×105 Pa ~1× 10-1 Pa) (B) 高度真空(1×10-6 Pa~ 1× 10-9 Pa) (C) 超高真空(1×10-4 Pa ~1×10-6 Pa)
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( B ) 真空可以真空度來區分為(何者為非):(A) 粗略真空(1×105 Pa ~1× 10-1 Pa) (B) 高度真空(1×10-6 Pa~ 1× 10-9 Pa) (C) 超高真空(1×10-4 Pa ~1×10-6 Pa)
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( ) 下列敘述何者為非? (A) 真空室是完全一個密閉的空間 (B) 真空計是用來偵測真空度 (C) 派藍尼真空計常被使用在偵測超高真空
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( B ) 下列敘述何者為非? (A) 真空室是完全一個密閉的空間 (B) 真空計是用來偵測真空度 (C) 派藍尼真空計常被使用在偵測超高真空
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( ) 真空計的分類可用以下哪幾種方式區分? (A) 量測範圍 (B) 量測方法 (C) 以上皆是 (D) 以上皆非
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( C ) 真空計的分類可用以下哪幾種方式區分? (A) 量測範圍 (B) 量測方法 (C) 以上皆是 (D) 以上皆非
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( ) 如何選擇真空計:(A)依照當日天氣 (B) 依照系統所需真空度 (C) 依照個人喜好選擇
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( B ) 如何選擇真空計:(A)依照當日天氣 (B) 依照系統所需真空度 (C) 依照個人喜好選擇
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( ) 以下何者為非: (A) 粗略真空1×10-6 Pa~ 1× 10-9 Pa (B) 中度真空 1×10-4 Pa ~1×10-6 Pa (C) 高度真空1×10 Pa-1 ~ 1×10-4 Pa (D) 超高真空1×105 Pa ~1× 10-1 Pa
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( D ) 以下何者為非: (A) 粗略真空1×10-6 Pa~ 1× 10-9 Pa (B) 中度真空 1×10-4 Pa ~1×10-6 Pa (C) 高度真空1×10-1Pa ~ 1×10-4 Pa (D) 超高真空1×105 Pa ~1× 10-1 Pa
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( ) 目前最常用的真空單位:(A) Pascal (B) Torr (C) mbar (D) atm
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( A ) 目前最常用的真空單位:(A) Pascal (B) Torr (C) mbar (D) atm
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( ) 下列何者非等值換算單位 (A) 1 atm (B) 760 torr (C) 750 mbar
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( C ) 下列何者非等值換算單位 (A) 1 atm (B) 760 torr (C) 750mbar
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( ) 下列何者非真空計(A) 派藍尼真空計 (B) 熱陰極真空計 (C) T-A真空計
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( C ) 下列何者非真空計?(A) 派藍尼真空計 (B) 熱陰極真空計 (C) T-A真空計
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( ) 以下何者為是 : (A) 真空系統是指幫浦的串連 (B) 真空系統是一完善系統不需要加裝真空計辨識真空度 (C) 真空計在真空系統中是辨識真空度的重要指標
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( C ) 以下何者為是 : (A) 真空系統是指幫浦的串連 (B) 真空系統是一完善系統不需要加裝真空計辨識真空度 (C) 真空計在真空系統中是辨識真空度的重要指標
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( ) 真空系統如何選用幫浦(下列何者為是)? (A)所能達到之最高壓力(high Pressure ) (B)有效之工作壓力範圍(Pressure Range) (C)抽氣速率大小(Pumping Speed)
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( A ) 真空系統如何選用幫浦(下列何者為是)? (A)所能達到之最高壓力(high Pressure ) (B)有效之工作壓力範圍(Pressure Range) (C)抽氣速率大小(Pumping Speed)
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( ) 下列何者不是真空系統選用幫浦所需考慮的準則? (A)抽氣速率大小(Pumping Speed) (B)排氣口壓力(Exhaust Pressure) (C)無效之壓力範圍(Pressure Range)
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( C ) 下列何者不是真空系統選用幫浦所需考慮的準則? (A)抽氣速率大小(Pumping Speed) (B)排氣口壓力(Exhaust Pressure) (C)無效之壓力範圍(Pressure Range).
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( ) 下列何者為真空系統所需俱備的必要項目 ?(A) 幫浦 (B) 真空計 (C) 腔體(D)以上皆是
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( D ) 下列何者為真空系統所需俱備的必要項目 ?(A) 幫浦 (B) 真空計 (C) 腔體(D)以上皆是
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( ) 下列何者為儲氣式幫浦? (A) 活塞式幫浦 (B) 渦輪分子幫浦 (C) 冷凍幫浦
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( C ) 下列何者為儲氣式幫浦? (A) 活塞式幫浦 (B) 渦輪分子幫浦 (C) 冷凍幫浦
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( ) 真空幫浦在真空系統中的主要作用為: (A) 抽氣 (B) 排氣 (C) 打氣 (D) 儲氣
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( A ) 真空幫浦在真空系統中的主要作用為: (A) 抽氣 (B) 排氣 (C) 打氣 (D) 儲氣
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( ) 下列何者為排氣式幫浦?(A) 吸附幫浦 (B) 結拖幫浦 (C) 擴散幫浦
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( B ) 下列何者為排氣式幫浦?(A) 吸附幫浦 (B) 結拖幫浦 (C) 擴散幫浦
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( ) 下列何者非ㄧ大氣壓可啟動的幫浦? (A) 擴散幫浦 (B) 渦輪分子幫浦 (C) 以上皆是 (D) 以上皆非
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( C ) 下列何者非ㄧ大氣壓可啟動的幫浦? (A) 擴散幫浦 (B) 渦輪分子幫浦 (C) 以上皆是 (D) 以上皆非
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真空系統可能因什麼因素而受到汙染?(A) 氣體在腔體中燃燒 (B)幫浦的油氣回流造成污染 (C) 氣體管路帶來的不明氣體導致氣體生成物
( ) 真空系統可能因什麼因素而受到汙染?(A) 氣體在腔體中燃燒 (B)幫浦的油氣回流造成污染 (C) 氣體管路帶來的不明氣體導致氣體生成物 (B) The hydrogen (氫) atom at ground state (A) can, (B) cannot, absorb a photon with 9.0 eV.
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( B ) 真空系統可能因什麼因素而受到汙染?(A) 氣體在腔體中燃燒 (B)幫浦的油氣回流造成污染 (C) 氣體管路帶來的不明氣體導致氣體生成物
38
( ) 想從一大氣壓將系統降至粗略真空範圍需要選用什麼樣的幫浦? (A) 擴散幫浦 (B) 魯式幫浦 (C) 冷凍幫浦
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( B ) 想從一大氣壓將系統降至粗略真空範圍需要選用什麼樣的幫浦? (A) 擴散幫浦 (B) 魯式幫浦 (C) 冷凍幫浦
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( ) 何為RCA 清洗(何者為非)?(A) 屬於半導體製程的一部份 (B)可去除晶圓上的油污、附著物及表面氧化物 (C)處理矽晶圓的主要清理流程
41
( C ) 何為RCA 清洗(何者為非)?(A) 屬於半導體製程的一部份 (B)可去除晶圓上的油污、附著物及表面氧化物 (C)處理矽晶圓的主要清理流程
42
( ) 下列何者非RCA清洗所需藥品? (A)氰氟酸 (HF) (B) 氨水 (NH4OH) (C) 鹽酸 (HCl)
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( C ) 下列何者非RCA清洗所需藥品? (A)氰氟酸 (HF) (B) 氨水 (NH4OH) (C) 鹽酸 (HCl)
44
( ) RCA清洗的步驟中哪個動作是不需要的? (A) 加熱 (B) 以去離子水清洗 (C) 活化/敏化
45
( C ) RCA清洗的步驟中哪個動作是不需要的? (A) 加熱 (B) 以去離子水清洗 (C) 活化/敏化
46
( ) 選用下列何種幫浦組合可以達到中度真空?(A) 魯式幫浦+擴散幫浦 (B) 擴散幫浦+冷凍幫浦 (C) 冷凍幫浦+渦輪分子幫浦
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( A ) 選用下列何種幫浦組合可以達到中度真空?(A) 魯式幫浦+擴散幫浦 (B) 擴散幫浦+冷凍幫浦 (C) 冷凍幫浦+渦輪分子幫浦
48
( ) 以下哪一種方式不能達到高度真空?(A) 乾式幫浦+渦輪分子幫浦 (B) 乾式幫浦+冷凍幫浦 (C) 以上皆可
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( C ) 以下哪一種方式不能達到高度真空?(A) 乾式幫浦+渦輪分子幫浦 (B) 乾式幫浦+冷凍幫浦 (C) 以上皆可
50
( ) 高真空使用的幫浦跟低真空使用的幫浦有什麼差異? (A) 轉速不同 (B) 低真空幫浦可以從ㄧ大氣壓啟動,高真空幫浦無法從ㄧ大氣壓下啟動 (C) 高真空幫浦可以從ㄧ大氣壓抽到高真空,低真空幫浦只能從一大氣壓抽到低真空
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( B ) 高真空使用的幫浦跟低真空使用的幫浦有什麼差異? (A) 轉速不同 (B) 低真空幫浦可以從ㄧ大氣壓啟動,高真空幫浦無法從ㄧ大氣壓下啟動 (C) 高真空幫浦可以從ㄧ大氣壓抽到高真空,低真空幫浦只能從一大氣壓抽到低真空
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( ) 高真空系統的保護裝置有何功用? (A) 在非正常啟動的環境下,避免氣體分子進入,會自動斷電,系統關機 (B) 在非正常啟動的環境下,避免氣體分子進入,會關上閥門隔絕 (C) 在非正常啟動的環境下,避免氣體分子進入系統,旋葉會反轉排出氣體
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( B ) 高真空系統的保護裝置有何功用? (A) 在非正常啟動的環境下,避免氣體分子進入,會自動斷電,系統關機 (B) 在非正常啟動的環境下,避免氣體分子進入,會關上閥門隔絕 (C) 在非正常啟動的環境下,避免氣體分子進入系統,旋葉會反轉排出氣體
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( ) 到達超高真空所需的主要後段幫浦 (A) 渦輪分子幫浦 (B) 擴散幫浦 (C) 旋片幫浦
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( A ) 到達超高真空所需的主要後段幫浦 (A) 渦輪分子幫浦 (B) 擴散幫浦 (C) 旋片幫浦
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( ) 觀察高度真空所需的真空計為下列何者? (A) 彭甯冷陰極真空計 (B) 熱電偶真空計 (C) 派藍尼真空計
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( A ) 觀察高度真空所需的真空計為下列何者? (A) 彭甯冷陰極真空計 (B) 熱電偶真空計 (C) 派藍尼真空計
58
( ) 到達高度真空系統所需的真空計組合為何?(A) 熱電偶真空計+派藍尼真空計 (B) 熱電偶真空計+彭甯冷陰極真空計 (C) 派藍尼真空計
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( B ) 到達高度真空系統所需的真空計組合為何?(A) 熱電偶真空計+派藍尼真空計 (B) 熱電偶真空計+彭甯冷陰極真空計 (C) 派藍尼真空計
60
( ) 下列哪一種真空幫浦兼具有真空計的效用(A) 鈦昇華幫浦 (B) 擴散幫浦 (C) 以上皆可
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( A ) 下列哪一種真空幫浦兼具有真空計的效用(A) 鈦昇華幫浦 (B) 擴散幫浦 (C) 以上皆可
62
( ) 下列哪一種真空幫浦具有油氣污染的疑慮而須加設油氣捕捉陷阱 (A) 擴散幫浦 (B) 渦輪分子幫浦 (C) 冷凍幫浦 (D) 乾式幫浦
63
( A ) 下列哪一種真空幫浦具有油氣污染的疑慮而須加設油氣捕捉陷阱 (A) 擴散幫浦 (B) 渦輪分子幫浦 (C) 冷凍幫浦 (D) 乾式幫浦
64
( ) 下列何者非RCA清洗的目的 (A)去除表面有機物汙染 (B) 去除金屬鍍膜層 (C) 去除生長閘極氧化層前之原生氧化矽
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( C ) 下列何者非RCA清洗的目的 (A)去除表面有機物汙染 (B) 去除金屬鍍膜層 (C) 去除生長閘極氧化層前之原生氧化矽
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第二單元感應耦合電漿離子束濺鍍沉積銅金屬化薄膜製備與分析
逢甲大學材料科學與工程學系編製
67
( ) 本系統有採用MFC(流量控制器),請說明本系統所採用的單位為何 ?(A) SCCM, (B) SCKM, (C)SCLM.
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( A ) 本系統有採用MFC(流量控制器),請說明本系統所採用的單位為何 ?(A) SCCM, (B) SCKM, (C)SCLM.
69
( ) 本系統採用哪 種低度真空計(A) 冷陰極真空計, (B) 派藍尼真空計, (C) 液位真空計
70
(B) 本系統採用哪 種低度真空計(A) 冷陰極真空計, (B) 派藍尼真空計, (C) 液位真空計
71
( ) 本系統採用的低度真空計工作範圍約略在幾Pa (A) 1~100, (B)0.1~104, (C) 10-2~10-5
72
(B) 本系統採用的低度真空計工作範圍約略在幾Pa (A) 1~100, (B)0.1~104, (C) 10-2~10-5
73
4. ( ) 本系統採用的高度真空計工作範圍約略在幾Pa (A) 1~10-7, (B)0.1~104, (C) 10-2~10-5
74
4. ( A ) 本系統採用的高度真空計工作範圍約略在幾Pa (A) 1~10-7, (B)0.1~104, (C) 10-2~10-5
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5. ( ) 本系統採用的低度真空幫浦工作範圍約略在幾Pa (A) 1~100, (B)1~105, (C) 10-2~10-4
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5. ( B ) 本系統採用的低度真空幫浦工作範圍約略在幾Pa (A) 1~100, (B)1~105, (C) 10-2~10-4
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6. ( ) 本系統採用哪種低度真空幫浦 (A)渦捲幫浦, (B)渦輪幫浦, (C) 活塞式幫浦
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6. ( A ) 本系統採用哪種低度真空幫浦 (A)渦捲幫浦, (B)渦輪幫浦, (C) 活塞式幫浦
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7. ( ) 本系統採用哪種高度真空幫浦 (A)渦捲幫浦, (B)渦輪分子幫浦, (C) 活塞式幫浦
80
7. ( B ) 本系統採用哪種高度真空幫浦 (A)渦捲幫浦, (B)渦輪分子幫浦, (C) 活塞式幫浦
81
8. ( ) 本系統採用的高度真空幫浦工作範圍約略在幾Pa (A) 10-1~100, (B) 102~105, (C) 10-1~10-7
82
8. ( C ) 本系統採用的高度真空幫浦工作範圍約略在幾Pa (A) 10-1~100, (B) 102~105, (C) 10-1~10-7
83
9. ( ) 本系統是採用哪種方式產生電漿(A) ICP (B) PVD (C) CVD
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9. (A) 本系統是採用哪種方式產生電漿(A) ICP (B) PVD (C) CVD
85
( ) 冷凍幫浦的抽氣方式有哪三種 (A) 低溫冷凝 (B)低溫捕獲 (C)低溫吸附 (D) 以上皆是.
86
(D) 冷凍幫浦的抽氣方式有哪三種 (A) 低溫冷凝 (B)低溫捕獲 (C)低溫吸附 (D) 以上皆是.
87
11. ( ) 濺鍍時是採用哪種氣體來產生電漿 (A)Ar (B)N2 (C) H2.
88
11. ( A ) 濺鍍時是採用哪種氣體來產生電漿 (A)Ar (B)N2 (C) H2.
89
( ) Vent氣是採用哪種氣體 (A)Ar (B)N2 (C) H2.
90
( B ) Vent氣是採用哪種氣體 (A)Ar (B)N2 (C) H2.
91
( ) 系統所顯示的壓力值是採用何種單位 . (A) Pa, (B) Torr, (C) mBar.
92
( A ) 系統所顯示的壓力值是採用何種單位 . (A) Pa, (B) Torr, (C) mBar.
93
( ) 本次所採用的基板為何種材料. (A) Si, (B) glass, (C) Stainless stell.
94
( A ) 本次所採用的基板為何種材料. (A) Si, (B) glass, (C) Stainless stell.
95
( ) RF power supply 所採用的頻率為何Hz (A) 13.6, (B) 12.6, (C) 10.6
96
( A ) RF power supply 所採用的頻率為何Hz (A) 13.6, (B) 12.6, (C) 10.6
97
( ) 本系統的RF power supply最大的功率極限為何 . (A) 1000, (B) 1400
98
( B ) 本系統的RF power supply最大的功率極限為何 . (A) 1000, (B) 1400
99
( ) 本系統的離子束產生搭配裝置是否有直流電源供應器 (A) Ture, (B) False
100
( A ) 本系統的離子束產生搭配裝置是否有直流電源供應器 (A) Ture, (B) False
101
( ) 在XRD的繞射光譜中是根據哪種光譜來獲得繞射訊息(A) 特徵光譜, (B) 連續光譜.
102
( A ) 在XRD的繞射光譜中是根據哪種光譜來獲得繞射訊息(A) 特徵光譜, (B) 連續光譜.
103
( ) XRD是根據何定律成立的 (A) 歐姆定律, (B) 牛頓第二定律, (C) 布拉格定律
104
( C ) XRD是根據何定律成立的 (A) 歐姆定律, (B) 牛頓第二定律, (C) 布拉格定律
105
( ) 在X光管內部是否為真空狀態 (A) True, (B) False
106
( A ) 在X光管內部是否為真空狀態 (A) True, (B) False
107
第三單元超高真空磁控濺鍍奈米氣體感測薄膜製備與分析
逢甲大學材料科學與工程學系編製
108
( ) 氧化鎢(WO3)薄膜具有何種結構(A)鈣鈦礦結構( Perovskite)(B)六方晶結構(hexagonul)(C)單斜(monoclinik)
109
( A ) 氧化鎢(WO3)薄膜具有何種結構(A)鈣鈦礦結構( Perovskite)(B)六方晶結構(hexagonul)(C)單斜(monoclinik)
110
( ) 反應性濺鍍(Reactive Sputter Deposition)是通入反應性氣體進行反應,可使用那些氣體(A) O2(B )N2 (C)皆可
111
( C ) 反應性濺鍍(Reactive Sputter Deposition)是通入反應性氣體進行反應,可使用那些氣體(A) O2(B )N2 (C)皆可
112
( ) 感測器依據檢測原理與材料類型大致可區分為(A)觸媒燃燒式(B)場效電晶體(C)金屬氧化物半導體(MOS)(D)皆具有
113
( D ) 感測器依據檢測原理與材料類型大致可區分為(A)觸媒燃燒式(B)場效電晶體(C)金屬氧化物半導體(MOS)(D)皆具有
114
( ) 觸媒燃燒式的氣體感測其使用之檢測氣體為(A)C2H5OH(B)CH4(C)H2(D)皆可
115
( D ) 觸媒燃燒式的氣體感測其使用之檢測氣體為(A)C2H5OH(B)CH4(C)H2(D)皆可
116
( ) 場效電晶體型的氣體感測其使用之檢測氣體為(A)H2(B)NH3(C)O2(D)皆可
117
( ) 場效電晶體型的氣體感測其使用之檢測氣體為(A)H2(B)NH3(C)O2(D)皆可
118
( ) 金屬氧化物半導體(MOS)的氣體感測其使用之檢測氣體為(A)CO(B)NO2(C)SO2(D)皆可
119
( D ) 金屬氧化物半導體(MOS)的氣體感測其使用之檢測氣體為(A)CO(B)NO2(C)SO2(D)皆可
120
( ) 觸媒燃燒式的氣體感測具有那些優缺點,何者為非(A)不受溫度與溼度的影響(B)反應速度慢(C)操作溫度高
121
( C ) 觸媒燃燒式的氣體感測具有那些優缺點,何者為非(A)不受溫度與溼度的影響(B)反應速度慢(C)操作溫度高
122
( ) 場效電晶體型的氣體感測具有那些優缺點,何者為非(A)穩定性高(B)反應速度慢(C)操作溫度高
123
( B ) 場效電晶體型的氣體感測具有那些優缺點,何者為非(A)穩定性高(B)反應速度慢(C)操作溫度高
124
( ) 金屬氧化物半導體(MOS)的氣體感測具有那些優缺點,何者為非(A)穩定性高(B)靈敏度較低(C)操作溫度高
125
( C ) 金屬氧化物半導體(MOS)的氣體感測具有那些優缺點,何者為非(A)穩定性高(B)靈敏度較低(C)操作溫度高
126
第四單元太陽能電池複晶吸收層薄膜製備與分析
逢甲大學材料科學與工程學系編製
127
( ) 高純度的半導體材料形成P型半導體是加入何種雜質(A) 氮 (B) 磷 (C) 硼
128
( C ) 高純度的半導體材料形成P型半導體是加入何種雜質(A) 氮 (B) 磷 (C) 硼
129
( ) 高純度的半導體材料形成N型半導體是加入何種雜質(A) 氮 (B) 鋁 (C) 硼
130
( A ) 高純度的半導體材料形成N型半導體是加入何種雜質(A) 氮 (B) 鋁 (C) 硼
131
( ) 太陽能電池的發電效果和其面積成正比(A) True, (B) False, (C) Not certain.
132
( A ) 太陽能電池的發電效果和其面積成正比(A) True, (B) False, (C) Not certain.
133
( ) 太陽能電池的發電機制,當太陽光照射晶片時,往P型區移動的為(A) 空孔 (B) 電子 (C) 中子
134
( A ) 太陽能電池的發電機制,當太陽光照射晶片時,往P型區移動的為(A) 空孔 (B) 電子 (C) 中子
135
( ) 太陽能電池的發電機制,當太陽光照射晶片時,往N型區移動的為(A) 空孔 (B) 電子 (C) 中子
136
( B ) 太陽能電池的發電機制,當太陽光照射晶片時,往N型區移動的為(A) 空孔 (B) 電子 (C) 中子
137
( ) 太陽能電池的發電機制,當晶片受光後負電子從N區負電極流出(A) 正電 (B) 負電 (C) 不帶電
138
( B ) 太陽能電池的發電機制,當晶片受光後負電子從N區負電極流出(A) 正電 (B) 負電 (C) 不帶電
139
( ) 太陽能電池的發電機制,當晶片受光後負電子從P區負電極流出(A) 正電 (B) 負電 (C) 不帶電
140
( A ) 太陽能電池的發電機制,當晶片受光後負電子從P區負電極流出(A) 正電 (B) 負電 (C) 不帶電
141
CIGS為一種極具潛力的太陽能電池吸收層材料。具有那些優點(A)低成本(B)高光吸收係數 (C)皆具有
( ) CIGS為一種極具潛力的太陽能電池吸收層材料。具有那些優點(A)低成本(B)高光吸收係數 (C)皆具有
142
( C ) CIGS為一種極具潛力的太陽能電池吸收層材料。具有那些優點(A)低成本(B)高光吸收係數 (C)皆具有
143
( ) CIGS為何種結構(A)黃銅礦結構(chalcopyrite)(B)六方晶結構(hexagonul)(C)單斜結構(monoclinik)
144
( C ) 金屬氧化物半導體(MOS)的氣體感測具有那些優缺點,何者為非(A)穩定性高(B)靈敏度較低(C)操作溫度高
145
( ) Ga的掺雜可調節能隙值,會導致能隙值(Eg)增加,對元件的光電轉換效率有很大的好處(A) True, (B) False, (C) Not certain
146
( A ) Ga的掺雜可調節能隙值,會導致能隙值(Eg)增加,對元件的光電轉換效率有很大的好處(A) True, (B) False, (C) Not certain
147
日常所使用的太陽能電池,一般是以何種材料當作基板(A)玻璃(B) 鐵板 (C)塑膠
( ) 日常所使用的太陽能電池,一般是以何種材料當作基板(A)玻璃(B) 鐵板 (C)塑膠
148
( A ) 日常所使用的太陽能電池,一般是以何種材料當作基板(A)玻璃(B) 鐵板 (C)塑膠
149
( ) pn 接面在形成時,空間中的載體分布先天上就已經不均勻,在p 型半導體中的電洞會向何處擴散(A) n 型半導體(B) 空乏區(C)不擴散
150
( A ) pn 接面在形成時,空間中的載體分布先天上就已經不均勻,在p 型半導體中的電洞會向何處擴散(A) n 型半導體(B) 空乏區(C)不擴散
151
( ) pn 接面在形成時,空間中的載體分布先天上就已經不均勻,在n 型半導體中的電子會向何處擴散(A) p型半導體(B) 空乏區(C)不擴散
152
( A ) pn 接面在形成時,空間中的載體分布先天上就已經不均勻,在n 型半導體中的電子會向何處擴散(A) p型半導體(B) 空乏區(C)不擴散
153
( ) 由於帶電載體的移動,原本每個位置都保持電中性的特性便被破壞,n 型半導體中會帶(A)正電(B) 負電(C)不帶電
154
( A ) 由於帶電載體的移動,原本每個位置都保持電中性的特性便被破壞,n 型半導體中會帶(A)正電(B) 負電(C)不帶電
155
( ) 由於帶電載體的移動,原本每個位置都保持電中性的特性便被破壞,p 型半導體中會帶(A)正電(B) 負電(C)不帶電
156
( B ) 由於帶電載體的移動,原本每個位置都保持電中性的特性便被破壞,p 型半導體中會帶(A)正電(B) 負電(C)不帶電
157
( ) CuInSe2,其能隙值約為(A) 1.1(B) 3.5(C)5.6 eV
158
( A ) CuInSe2,其能隙值約為(A) 1.1(B) 3.5(C)5.6 eV
159
( ) 在CIGS吸收層的製備上有以下幾種方法,何者正確(A)多元素共蒸鍍(B)金屬前驅層硒化(C)皆正確
160
( C ) 在CIGS吸收層的製備上有以下幾種方法,何者正確(A)多元素共蒸鍍(B)金屬前驅層硒化(C)皆正確
161
( ) CuInSe2結構,在加入Ga後其能隙值依其百分比可在 (A)1.17 ~1.20 (B) 2.17~2.20(C)3.17~3.20 eV之間調變
162
( A ) CuInSe2結構,在加入Ga後其能隙值依其百分比可在 (A)1.17 ~1.20 (B) 2.17~2.20(C)3.17~3.20 eV之間調變
163
( ) 各區的電子與電洞濃度分佈,在中間的離子區,電子與電洞的濃度都較中性區之多數載體濃度為低。由於離子區缺乏可移動的載體,一般將此區稱做(A)空乏區 (B) 本質區(C)異質區
164
( A ) 各區的電子與電洞濃度分佈,在中間的離子區,電子與電洞的濃度都較中性區之多數載體濃度為低。由於離子區缺乏可移動的載體,一般將此區稱做(A)空乏區 (B) 本質區(C)異質區
165
( ) 各區的電子與電洞濃度分佈,在p 型中性區中電洞濃度與電子濃度何者最大(A)電洞 (B) 電子(C)相同
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( A ) 各區的電子與電洞濃度分佈,在p 型中性區中電洞濃度與電子濃度何者最大(A)電洞 (B) 電子(C)相同
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