第7章 常用半导体器件 学习要点 半导体器件工作原理.

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第7章 常用半导体器件 学习要点 半导体器件工作原理

第7章 常用半导体器件 7.1 半导体二极管 7.2 半导体三极管

7.1 半导体二极管 半导体器件是用半导体材料制成的电子器件。常用的半导体器件有二极管、三极管、场效应晶体管等。半导体器件是构成各种电子电路最基本的元件。 7.1.1 PN结 半导体:导电性能介于导体和绝缘体之间的物质,如硅(Si)、锗(Ge)。硅和锗是4价元素,原子的最外层轨道上有4个价电子。

每个原子周围有四个相邻的原子,原子之间通过共价键紧密结合在一起。两个相邻原子共用一对电子。 1.半导体的导电特征 热激发产生自由电子和空穴 每个原子周围有四个相邻的原子,原子之间通过共价键紧密结合在一起。两个相邻原子共用一对电子。 室温下,由于热运动少数价电子挣脱共价键的束缚成为自由电子,同时在共价键中留下一个空位这个空位称为空穴。失去价电子的原子成为正离子,就好象空穴带正电荷一样。 在电子技术中,将空穴看成带正电荷的载流子。

空穴运动 (与自由电子的运动不同) 有了空穴,邻近共价键中的价电子很容易过来填补这个空穴,这样空穴便转移到邻近共价键中。新的空穴又会被邻近的价电子填补。带负电荷的价电子依次填补空穴的运动,从效果上看,相当于带正电荷的空穴作相反方向的运动。 本征半导体中有两种载流子:带负电荷的自由电子和带正电荷的空穴 热激发产生的自由电子和空穴是成对出现的,电子和空穴又可能重新结合而成对消失,称为复合。在一定温度下自由电子和空穴维持一定的浓度。

在纯净半导体中掺入某些微量杂质,其导电能力将大大增强。 N型半导体 在纯净半导体硅或锗中掺入磷、砷等5价元素,由于这类元素的原子最外层有5个价电子,故在构成的共价键结构中,由于存在多余的价电子而产生大量自由电子,这种半导体主要靠自由电子导电,称为电子半导体或N型半导体,其中自由电子为多数载流子,热激发形成的空穴为少数载流子。 多数载流子(简称多子) 自由电子 少数载流子(简称少子) 空 穴

P型半导体 空 穴 多数载流子(简称多子) 少数载流子(简称少子) 自由电子 空 穴 多数载流子(简称多子) 少数载流子(简称少子) 自由电子

无论是P型半导体还是N型半导体都是中性的,对外不显电性。 掺入的杂质元素的浓度越高,多数载流子的数量越多。 少数载流子是热激发而产生的,其数量的多少决定于温度。

将一块半导体的一侧掺杂成P型半导体,另一侧掺杂成N型半导体,在两种半导体的交界面处将形成一个特殊的薄层→ PN结。 半导体中载流子有扩散运动和漂移运动两种运动方式。载流子在电场作用下的定向运动称为漂移运动。在半导体中,如果载流子浓度分布不均匀,因为浓度差,载流子将会从浓度高的区域向浓度低的区域运动,这种运动称为扩散运动。 将一块半导体的一侧掺杂成P型半导体,另一侧掺杂成N型半导体,在两种半导体的交界面处将形成一个特殊的薄层→ PN结。

扩散与漂移达到动态平衡形成一定宽度的PN结 形成空间电荷区产生内电场 多子扩散 促使 少子漂移 阻止

PN结的单向导电性 ①外加正向电压(也叫正向偏置) 外加电场与内电场方向相反,内电场削弱,扩散运动大大超过漂移运动,N区电子不断扩散到P区,P区空穴不断扩散到N区,形成较大的正向电流,这时称PN结处于导通状态。

②外加反向电压(也叫反向偏置) 外加电场与内电场方向相同,增强了内电场,多子扩散难以进行,少子在电场作用下形成反向电流 IR,因为是少子漂移运动产生的, IR很小,这时称PN结处于截止状态。

7.1.2 半导体二极管 1.半导体二极管的结构与符号 一个PN结加上相应的电极引线并用管壳封装起来,就构成了半导体二极管,简称二极管。 7.1.2 半导体二极管 1.半导体二极管的结构与符号 一个PN结加上相应的电极引线并用管壳封装起来,就构成了半导体二极管,简称二极管。 半导体二极管按其结构不同可分为点接触型和面接触型两类。 点接触型二极管PN结面积很小,结电容很小,多用于高频检波及脉冲数字电路中的开关元件。 面接触型二极管PN结面积大,结电容也小,多用在低频整流电路中。

2.半导体二极管的伏安特性曲线 (1)正向特性 外加正向电压较小时,外电场不足以克服内电场对多子扩散的阻力,PN结仍处于截止状态 。 正向电压大于死区电压后,正向电流 随着正向电压增大迅速上升。通常死区电压硅管约为0.5V,锗管约为0.2V。 (2)反向特性 外加反向电压时, PN结处于截止状态,反向电流 很小。 反向电压大于击穿电压时,反向电流急剧增加。

3.半导体二极管的主要参数 1)最大整流电流IF:指管子长期运行时,允许通过的最大正向平均电流。 2)反向击穿电压UB:指管子反向击穿时的电压值。 3)最大反向工作电压UDRM:二极管运行时允许承受的最大反向电压(约为UB 的一半)。 4)反向电流IR:指管子未击穿时的反向电流,其值越小,则管子的单向导电性越好。 5)最高工作频率fm:主要取决于PN结结电容的大小。 理想二极管:正向电阻为零,正向导通时为短路特性,正向压降忽略不计;反向电阻为无穷大,反向截止时为开路特性,反向漏电流忽略不计。

7.1.3 稳压管 稳压管是一种用特殊工艺制造的半导体二极管,稳压管的稳定电压就是反向击穿电压。稳压管的稳压作用在于:电流增量很大,只引起很小的电压变化。 稳压管的主要参数: (1)稳定电压UZ。反向击穿后稳定工作的电压。 (2)稳定电流IZ。工作电压等于稳定电压时的电流。 (3)动态电阻rZ。稳定工作范围内,管子两端电压的变化量与相应电流的变化量之比。即:rZ=ΔUZ/ΔIZ (4)额定功率PZ和最大稳定电流IZM。额定功率PZ是在稳压管允许结温下的最大功率损耗。最大稳定电流IZM是指稳压管允许通过的最大电流。它们之间的关系是: PZ=UZIZM

7.2 半导体三极管 7.2.1 三极管的结构及类型 半导体三极管是由两个背靠背的PN结构成的。在工作过程中,两种载流子(电子和空穴)都参与导电,故又称为双极型晶体管,简称晶体管或三极管。 两个PN结,把半导体分成三个区域。这三个区域的排列,可以是N-P-N,也可以是P-N-P。因此,三极管有两种类型:NPN型和PNP型。

NPN型 箭头方向表示发射结加正向电压时的电流方向 PNP型

7.2.2 电流分配和电流放大作用 (1)产生放大作用的条件 内部:a)发射区杂质浓度>>基区>>集电区 7.2.2 电流分配和电流放大作用 (1)产生放大作用的条件 内部:a)发射区杂质浓度>>基区>>集电区 b)基区很薄 外部:发射结正偏,集电结反偏 (2)三极管内部载流子的传输过程 a)发射区向基区注入电子,形成发射极电流 iE b)电子在基区中的扩散与复合,形成基极电流 iB c)集电区收集扩散过来的电子,形成集电极电流 iC (3)电流分配关系: iE = iC + iB

实验表明IC比IB大数十至数百倍,因而有。IB虽然很小,但对IC有控制作用,IC随IB的改变而改变,即基极电流较小的变化可以引起集电极电流较大的变化,表明基极电流对集电极具有小量控制大量的作用,这就是三极管的电流放大作用。 7.2.3 三极管的特性曲线 1.输入特性曲线 与二极管类似

2.输出特性曲线 (1)放大区:发射极正向偏置,集电结反向偏置 (2)截止区:发射结反向偏置,集电结反向偏置 (3)饱和区:发射结正向偏置,集电结正向偏置 此时

7.2.4 三极管的主要参数 1、电流放大系数β:iC= β iB 2、极间反向电流iCBO、iCEO:iCEO=(1+ β )iCBO 7.2.4 三极管的主要参数 1、电流放大系数β:iC= β iB 2、极间反向电流iCBO、iCEO:iCEO=(1+ β )iCBO 3、极限参数 (1)集电极最大允许电流 ICM:下降到额定值的2/3时所允许的最大集电极电流。 (2)反向击穿电压U(BR)CEO:基极开路时,集电极、发射极间的最大允许电压。 (3)集电极最大允许功耗PCM 。