VTS 軟板薄膜濺鍍輪設備
VTS’s 軟板薄膜濺鍍滾輪系統設備可依據客戶個別規格需求轉換設計為工業製品 . 介 紹 VTS’s 軟板薄膜濺鍍滾輪系統設備可依據客戶個別規格需求轉換設計為工業製品 . 呈現在這份手冊中這套系統, 讓使用者能使用現行科技元件研發程序, 進行生產. VTS’s 多層高真空網狀/滾輪系統設備設計為鍍 Polyimide Film, Mylar, foil 和其他薄膜塑膠或金屬材料可以儲存在連續捲狀滾輪型態. 典型的製程在高真空槍膛含括濺鍍源頭, 電子光束槍, 熱源, 基板溫度, 離子束源與電漿製程條.
AWC-550 濺鍍滾輪設備 技 術 使用 AWC-550, 金屬將被儲存在一端薄膜, 以氬氣與活躍氣體導入形成高比率離子光束製作多層膜. 產 品 訊 息 技 術 使用 AWC-550, 金屬將被儲存在一端薄膜, 以氬氣與活躍氣體導入形成高比率離子光束製作多層膜. 設 備 技 術 多層-內膛-系統由線圈, 預處理, 電鍍, 中間即筒 在電鍍過程中, 有一個電鍍圓桶做為冷卻薄膜用 電鍍圓桶有冷卻/加熱配備 即筒設備為渦輪組成可縮短即筒下壓 用離子光束預先處理 多於4組合乎標準DC 磁電管做為金屬漸鍍過程 使用 擁有3個驅動馬達的電子控制捲線系統 技 術 資 料 基 板 材 料 塑 膠 薄 膜 (PET, PI, etc.) 滾輪尺寸 最大. 380mm 寬度 up to 550 mm 厚 度 25㎛ to 200㎛ 薄膜速度 0.1 to 5 M/min
線 性 離 子 光 束 VTS 線性離子光束特性 / 優點 沒有極板網細絲 具生產力, 低需求維護, 無損耗, 低成本 產 品 訊 息 VTS 線性離子光束特性 / 優點 沒有極板網細絲 具生產力, 低需求維護, 無損耗, 低成本 氣體相容反應 - I.e.100% 低溫氧氣 磁電管運作壓力 (0.1-5mTorr) 尺寸大小可自訂 無需多層電力來源 – 容易整合完成 高能量 高電流密度 光束一致穩定性 Current Density Distribution Profile
DC 磁電管濺鍍來源 VTS 線性濺度來園特徵 / 優點 具生產力, 低需求維護, 無損耗, 低成本 低溫 產 品 訊 息 VTS 線性濺度來園特徵 / 優點 具生產力, 低需求維護, 無損耗, 低成本 低溫 磁電管運作壓力 (0.8- 5mTorr) 尺寸大小可自訂 高電力相容性 高儲存率 電鍍一致穩定性 ㎛/min Power vs Deposition Rate Å Position vs Deposition Profile
PI film 電鍍 成形 VTS 的 FCCL 技術資料 FCCL 生 產 製 程 Web coating Fine Pitch 聯繫層 Polyimide Film Copper PI film 聯繫層 儲存 預處理 電鍍 成形 Web coating FCCL 生 產 製 程
VTS 的 FCCL 技術資料 以ATEC 線性離子光束製作Polyimide薄膜表面修飾 使用不同劑量的離子光束照射 polyimide 表面能量分析圖 使用不同劑量的離子光束照射 polyimide 乾燥角度分析圖
以ATEC 線性離子光束製作Polyimide薄膜表面修飾 VTS 的 FCCL 技術資料 以ATEC 線性離子光束製作Polyimide薄膜表面修飾 Low Current Density High Current Density 使用離子光束照射 polyimide以不同離子流量 做乾燥角度分析圖 使用不同的氣體經由離子光束照射分析黏膠強度
VTS 的 FCCL 技術資料 使用離子光束修飾 polyimide薄膜的 XPS 資料 PMDAODA 的重複聚合單元概要圖示. 結合能 (eV) 經高反迴旋後, 收集 PMDA-ODA polyimide對O 1s, N 1s, and C 1s的XPS頻譜 結合能 (eV) 經線性離子光束照射後,收集 PMDA-ODA polyimide對O 1s, N 1s, and C 1s的XPS頻譜
使用離子光束修飾 polyimide薄膜的 SAM 資料 VTS 的 FCCL 技術資料 使用離子光束修飾 polyimide薄膜的 SAM 資料 By Gas A Raw Film By Gas A + C By Gas C
VTS 的 FCCL 技術資料 離子光源對 Polyimide 薄膜的表面修飾 不同劑量的離子照射的剝璃強度 不同劑量的離子照射的剝璃強度
VTS 的 FCCL 技術資料 糾 正 測 試 (150℃, 168h) 銅 的 厚 度 & 剝 離 強 度 不同劑量的離子照射的剝璃強度 銅 的 厚 度 & 剝 離 強 度 ㎏f/㎝ ㎛ 2 4 6 8 10 12 14 16 18 20 0.0 0.2 0.4 0.6 0.8 1.0 1.2 Peel Strength ( ) Cu Thickness ( ) 不同劑量的離子照射的剝璃強度
VTS 的 FCCL 技術資料 化 學 測 試 Mean : 0.80 kgf/cm Mean : 0. 78 kgf/cm 測 試 條 件 : 樣品寬度 : 3 ㎜ 樣品位置 : MD C PI 厚度 : 38 ㎛ 銅的厚度 : 9 ㎛ 剝離模式 : 垂直 (90˚) 剝離速度 : 50 ㎜ / min Mean : 0.80 kgf/cm 원자재 표면 常 溫 狀 況 Mean : 0. 78 kgf/cm Mean : 0.79 kgf/cm HCL 測 試 By Gas C By Gas A + C KOH 測 試
結 論 VTS 的網狀 / 滾輪系統 : 發展中科技目前進步水準 VTS 的線性離子光束 : 高流量密度 光束一致穩定 尺寸大小可自訂 結 論 VTS 的網狀 / 滾輪系統 : 發展中科技目前進步水準 VTS 的線性離子光束 : 高流量密度 光束一致穩定 尺寸大小可自訂 VTS 的線性 DC 磁電管濺鍍源 : 高儲存率 電鍍一致穩定性 經由氣體探離子做 Pl 表面修飾 : 高表面能量 快速表面修飾 高剝離強度 高流量密度離子光源 : 高表面能量 糾正測試 : 0.32 kgf/㎝ 化學測試 : 0.78 kgf/㎝ 원자재 표면 By Gas A By Gas A + C By Gas C